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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450

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  北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司(以下簡稱:慧龍環(huán)科)是一家專業(yè)的實驗室儀器設(shè)備、耗材銷售服務(wù)商。致力于將先進的實驗室儀器、生態(tài)環(huán)保、智慧農(nóng)業(yè)、安全防護、食品安全、材料科學(xué)等相關(guān)檢測分析儀器整合成系統(tǒng)解決方案,為廣大客戶提供先進的檢測方式和完善的售后服務(wù)體系。
 
  慧龍環(huán)科經(jīng)全體同仁齊心協(xié)力、眾志成城的努力奮斗以及業(yè)界眾多廠商、客戶的信賴支持下,慧龍環(huán)科已在水質(zhì)檢測、氣體分析、環(huán)境輻射、實驗室儀器、生態(tài)環(huán)保、智慧農(nóng)業(yè)、食品安全、石油化工、工業(yè)檢測、安全防護、材料科學(xué)等領(lǐng)域建立獨立、完善、便捷的服務(wù)信譽。
 
  客戶群體涉及教育科研、石油化工、環(huán)保監(jiān)測、市政工程、農(nóng)林牧副漁、新能源光伏等眾多行業(yè)。

環(huán)保監(jiān)測儀器、食品安全檢測儀、水質(zhì)分析儀、氣體檢測儀、實驗室設(shè)備、石油化工檢測儀、消防安監(jiān)設(shè)備

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450

真空室結(jié)構(gòu):球形前開門

真空室尺寸:450mm

極限真空度:≤6.67E-6Pa

沉積源:2英寸靶材,4個

樣品尺寸,溫度:2英寸,1片,最高800℃C

占地面積(長x寬x高):約1.8米x0.97米x1.9米

電控描述:全自動

工藝:

特色參數(shù):

產(chǎn)品概述:
系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
設(shè)備用途:
脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION,簡稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項技術(shù),繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導(dǎo)薄膜之后,它的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術(shù)在生成復(fù)雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結(jié)果。與常規(guī)的沉積技術(shù)相比,脈沖激光沉積的過程被認為是“化學(xué)計量”的過程,因為它是將靶的成分轉(zhuǎn)換成沉積薄膜,非常適合于沉積氧化物之類的復(fù)雜結(jié)構(gòu)材料。當前脈沖激光制備技術(shù)在難熔材料及多組分材料(如化合物半導(dǎo)體、電子陶瓷、超導(dǎo)材料)的精密薄膜,顯示出了誘人的應(yīng)用前景。




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