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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備> 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500

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高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500

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  北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司(以下簡稱:慧龍環(huán)科)是一家專業(yè)的實驗室儀器設備、耗材銷售服務商。致力于將先進的實驗室儀器、生態(tài)環(huán)保、智慧農業(yè)、安全防護、食品安全、材料科學等相關檢測分析儀器整合成系統(tǒng)解決方案,為廣大客戶提供先進的檢測方式和完善的售后服務體系。
 
  慧龍環(huán)科經全體同仁齊心協(xié)力、眾志成城的努力奮斗以及業(yè)界眾多廠商、客戶的信賴支持下,慧龍環(huán)科已在水質檢測、氣體分析、環(huán)境輻射、實驗室儀器、生態(tài)環(huán)保、智慧農業(yè)、食品安全、石油化工、工業(yè)檢測、安全防護、材料科學等領域建立獨立、完善、便捷的服務信譽。
 
  客戶群體涉及教育科研、石油化工、環(huán)保監(jiān)測、市政工程、農林牧副漁、新能源光伏等眾多行業(yè)。

環(huán)保監(jiān)測儀器、食品安全檢測儀、水質分析儀、氣體檢測儀、實驗室設備、石油化工檢測儀、消防安監(jiān)設備

高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500

真空室結構:方形前開門

真空室尺寸:p500x500x500mm

極限真空度:≤3.0E-5Pa

沉積源:永磁靶4套,2英寸

樣品尺寸,溫度:p4英寸,1片,最高800°C

占地面積(長x寬x高):約2米x1.7米x2米

電控描述:全自動

工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

特色參數(shù):

產品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構,采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。 

設備特點:

本設備是一個鍍膜平臺,可把磁控靶拆下?lián)Q電子槍成為電子束鍍膜系統(tǒng)、或換蒸發(fā)源作為熱蒸發(fā)系統(tǒng)、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統(tǒng)等。
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目




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