化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備> 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450
- 公司名稱 北京慧龍環(huán)科環(huán)境儀器有限公司
- 品牌 沈陽(yáng)科儀
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2025/5/21 11:15:40
- 訪問次數(shù) 100
聯(lián)系方式:慧龍環(huán)科18911758155,18910319870 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
環(huán)保監(jiān)測(cè)儀器、食品安全檢測(cè)儀、水質(zhì)分析儀、氣體檢測(cè)儀、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、石油化工檢測(cè)儀、消防安監(jiān)設(shè)備
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--TRP450
真空室結(jié)構(gòu):圓筒形前開門
真空室尺寸:φ450x400mm
極限真空度:≤6.6E-6Pa
沉積源:永磁靶3套,2英寸,可以向上濺射或向下濺射。
樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,最高800C
占地面積(長(zhǎng)x寬x高):約1米x1.8米x2米
電控描述:全自動(dòng)
工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%
特色參數(shù):
產(chǎn)品概述:
本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu),采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
設(shè)備用途:
可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項(xiàng)目。
用戶評(píng)價(jià):
TRP-450高真空鍍膜機(jī)其設(shè)備質(zhì)量過關(guān),功能齊全,性能穩(wěn)定,自動(dòng)化程度高,抽氣極速平穩(wěn),電源穩(wěn)定可靠,氣路流暢密閉,鍍膜質(zhì)量平整光滑,均勻致密,結(jié)合力強(qiáng),且系統(tǒng)操控智能,便捷,可滿足科研實(shí)驗(yàn)與生產(chǎn)制造的需求,是一款優(yōu)秀的磁控濺射鍍膜系統(tǒng)?!本┦┘夹g(shù)研究院有限公司 李老師