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參考價	面議

半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器

PALD

粉體包覆

PALD廠家

ALD

原子層沉積設(shè)備

其他品牌

價格區(qū)間	100萬-200萬	應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

正極材料包覆（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

詳細(xì)介紹

    一、正極材料包覆核心參數(shù)：

    價格區(qū)間：100萬-200萬

    產(chǎn)地類別：國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）

    襯底尺寸：10g-1000g粉末

    工藝溫度：RT-300℃

    前驅(qū)體數(shù)：2組反應(yīng)氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體

    重量：300KG

    尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm

    均勻性：在粉末表面實現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%

    二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。

    三、正極材料包覆產(chǎn)品描述：

    廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設(shè)備它可以在微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長，GM1000的反應(yīng)室可自動運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設(shè)備配有獨立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機構(gòu)、全自動溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的最佳研發(fā)工具。

    四、售后服務(wù)：

    保修期：1年

    是否可延長保修期：否

    現(xiàn)場技術(shù)咨詢：有

    免費培訓(xùn)：1.設(shè)備出廠前，提供至少2人一周的設(shè)備原廠培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試

    免費儀器保養(yǎng)：有需要可安排

    保內(nèi)維修承諾：保修期內(nèi)（除天災(zāi)和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔(dān)

    報修承諾：質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應(yīng)，并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障

    五、技術(shù)參數(shù)：