雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技...
原子層沉積設備廠家 參考價：面議
原子層沉積設備廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...
原子層沉積系統(tǒng)廠家 參考價：面議
原子層沉積系統(tǒng)廠家（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術...
桌面式原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
桌面式原子層沉積系統(tǒng)ALD（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的...
粉末原子層沉積 參考價：面議
粉末原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具...
等離子體原子層沉積 參考價：面議
雙腔體等離子體原子層沉積系統(tǒng)是通過將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學吸附并反應而形成沉積膜的一種技術，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術主要...
3