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無掩模對光刻機
無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES）的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
型號： MLA 300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:28:32 對比

傳感器 MEMS 微流體器件
無掩模直接成像儀
VPG 300 DI 無掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)...
型號： VPG 300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:22:48 對比

高分辨率微結(jié)構(gòu)精確高效微結(jié)構(gòu)制造能力
激光光刻機.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:18:52 對比

微電子 MEMS 微流體
原子層沉積（ALD）
FlexAL系統(tǒng)可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、...
型號： FlexAL 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:13:14 對比

原子層沉積（ALD）
ICPCVD
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:11:24 對比

ICPCVD 刻蝕沉積
投影步進電機
AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
型號： AP200/300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:07:13 對比

投影步進光刻
離子束濺射（IBD）光學(xué)鍍膜系統(tǒng)
用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射（IBD）光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，實現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)具有多...
型號： SPECTOR 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:05:19 對比

IBD
Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)
新型 Lancer™ 離子束蝕刻（IBE）系統(tǒng)專為開發(fā)和生產(chǎn)智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現(xiàn)連接性、功能性和移動性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:03:26 對比

離子束蝕刻
鍵合對準(zhǔn)機
鍵合對準(zhǔn)機BA Gen4 是專為手動對準(zhǔn)并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設(shè)計的。選配掩模對準(zhǔn)器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進封...
型號： BA Gen4 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 16:01:36 對比

晶圓鍵合
無掩模光刻機
μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術(shù)，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。
型號： μMLA 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:59:06 對比

微流控小規(guī)模掩模寫入微光學(xué)微透鏡陣列
涂膠與顯影機
ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:57:03 對比

涂膠顯影先進封裝
掩膜自動處理系統(tǒng)
掩模的完整性對高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn)。它是應(yīng)對 ...
型號： MaskTrack... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:55:10 對比

掩模清洗烘烤顯影
干法刻蝕裝置
對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
型號： NLD-5700 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:10:19 對比

干法刻蝕裝置 NLD-5700
干法刻蝕設(shè)備
干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對我司以往設(shè)備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
型號： APIOS NE-... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:08:22 對比

干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX
NLD干法刻蝕設(shè)備
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
型號： NLD-570 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:06:19 對比

NLD干法刻蝕設(shè)備 NLD-570
高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
型號： ULHITETM ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:03:51 對比

ULHITETM NE-7800H 高密度等離子刻蝕裝置
刻蝕設(shè)備
量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800是可以對應(yīng)單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設(shè)備。
型號： NE-5700/N... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:01:45 對比

NE-5700/NE-7800 刻蝕設(shè)備
濺射鍍膜設(shè)備（立式）
濺射鍍膜設(shè)備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各...
型號： SMD系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:59:51 對比

濺射鍍膜設(shè)備（立式）SMD系列
Load-lock式濺射設(shè)備
Load-lock式濺射設(shè)備是可對應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過在真空濺射室之前增加一個預(yù)真空鎖室（Load-lock chamber），實現(xiàn)...
型號： CS-200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:58:03 對比

Load-lock式濺射設(shè)備 CS-200
批次式濺射設(shè)備
批次式濺射設(shè)備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
型號： SV系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:55:41 對比

批次式濺射設(shè)備

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