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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
    型號： PVD500 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:54:44 對比

  • 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)

    產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
    型號： PVD400 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:50:21 對比

  • 開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)

    等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟(jì)高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點(diǎn)。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
    型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:43:59 對比

  • PEARD系統(tǒng)

    SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:40:01 對比

  • PEALD 系統(tǒng)

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號： SI PEALD 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:35:37 對比

  • ICPECVD 系統(tǒng)

    電感耦合等離子體 （ICP） 沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號： SI 500 D 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:31:28 對比

  • 等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 （ICP） 源，可實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
    型號： SENTECH S... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:27:46 對比

  • 等離子體蝕刻系統(tǒng)

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設(shè)計的電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
    型號： SI 500 C 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:26:15 對比

  • 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

    PlasmaPro 100 Nano用于生長1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:20:43 對比

  • 離子束沉積

    離子束沉積產(chǎn)品是因?yàn)樗鼈兡軌蛏a(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實(shí)現(xiàn)， 因而提高系統(tǒng)的利用率。...
    型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:17:21 對比

  • 原子層刻蝕

    ALE是一種先進(jìn)的刻蝕技術(shù)，可以針對較淺的微結(jié)構(gòu)進(jìn)行出色的深度控制。 隨著器件微結(jié)構(gòu)尺寸越來越小，要達(dá)到器件的更高性能可以通過ALE技術(shù)所具有的精度來實(shí)現(xiàn)。在如...
    型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:13:14 對比

  • 高精密微3D光刻機(jī)

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設(shè)備， 最高光學(xué)分辨率可達(dá)1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:09:44 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    BIO系列是生命科學(xué)版的無掩膜紫外光刻機(jī)，無掩膜光刻機(jī)具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)領(lǐng)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:02:00 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其無掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:57:54 對比

  • 無掩膜光刻機(jī)

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:53:38 對比

  • 激光掩模光刻機(jī)

    ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:49:59 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機(jī)

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:43:56 對比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:39:38 對比

  • 激光光刻機(jī)

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:35:30 對比

  • 雙光子聚合直寫光刻機(jī)

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
    型號： MPO 100 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:30:58 對比
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