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VP-RS20等離子體刻蝕機PX 4182
PLUTO-E100科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統(tǒng)PX 5005
Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVDPX 3166
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統(tǒng)PX 2000
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1443
CGST3100全自動干法去膠機PX 1700
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機PX 7552
SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機PX 4061
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)PX 2933
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 1961
FPTOR-RIE600W反應(yīng)離子刻蝕機系統(tǒng)PX 3327
LT-400G過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用PX 2465
Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 3015
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 2803
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1776
離子污染測定儀PX 2233
VP-RS15等離子刻蝕機PX 4182
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 5005
ICP等離子刻蝕機PX 5005
PICO德國Diener等離子清洗機PX 3166
FEMTO德國Diener等離子清洗機PX 3166
Atto德國Diener等離子清洗機PX 3166
ZEPTO德國Diener等離子清洗機PX 3166
80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)PX 2000
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統(tǒng)PX 2000
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 2000
PTP-300等離子清洗和加熱機PX 2000
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 2000
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 2000
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 2000
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 2000
UC100-SE紫外臭氧清洗機PX 2000
PT500等離子清洗機PX 2000
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)PX 2000
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 2000
EIS-1500離子束刻蝕機PX 2000
EIS-200ERP離子束刻蝕機PX 2000
Shale® C 系列8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2000
Haasrode® Avior® A電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設(shè)備PX 2000
Pishow® D 系列8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備PX 2000
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD
全自動去膠機
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)
等離子清洗機
全自動干法去膠機
科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統(tǒng)
森泰克刻蝕機Etchlab 200
森泰克感應(yīng)耦合等離子刻蝕機SI 500
等離子體刻蝕機
大氣常壓等離子處理機器
過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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