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當(dāng)前位置：> 供求商機(jī)> Osaka Vacuum大阪真空 渦輪分子泵 TG5003
所在地：日本
貨物所在地：四川成都市
更新時(shí)間：2025/6/19 16:36:45
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Osaka Vacuum大阪真空 渦輪分子泵 TG5003
Osaka Vacuum大阪真空 渦輪分子泵 TG5003
渦輪分子泵（Turbomolecular Pump）是一種通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)葉片與氣體分子動(dòng)量交換來(lái)實(shí)現(xiàn)抽氣作用的高真空泵。1958年由德國(guó)科學(xué)家貝克（W. Becker）研制成功，現(xiàn)已成為高真空和超高真空系統(tǒng)中最核心的抽氣設(shè)備之一。渦輪分子泵通過(guò)轉(zhuǎn)子葉片以超音速（通常300-600m/s）運(yùn)動(dòng)，直接撞擊氣體分子并賦予其定向速度，從而在進(jìn)氣口端產(chǎn)生高真空環(huán)境。
| 進(jìn)氣法蘭 | VG450型 | |
| 抽速 | N2 （升/秒） | 5000 |
| N2（帶保護(hù)網(wǎng)） （升/秒） | 4700 | |
| H2 （升/秒） | 4000 | |
| 最大壓縮比 | N2 | 1×108 |
| H2 | 5×103 | |
| 極限壓力 | VG （Pa） | <1×10-6 |
| VG （托） | <7.5×10-9 | |
| 最大氣體流速※1 | N2 （SCCM） | 1200 |
| 啟動(dòng)時(shí)間 | （分鐘） | 25-35 |
| 停機(jī)時(shí)間 | （分鐘） | 30-40 |
| 允許的輔助壓力 | （Pa / Torr） | 200/1.5 |
| 推薦的輔助泵 | （升/分鐘） | 1500 |
| 潤(rùn)滑油量 | （毫升） | 1000 |
| 安裝姿勢(shì) | 垂直 （±10°） | |
| 質(zhì)量 | （公斤） | 250 |
| 控制器類型 | TC5503 系列 | |
用
?半導(dǎo)體制造
?電子槍排氣、離子源排氣
?FPD 制造
?表面處理、表面改性
?各種電子元件的制造
?管材、光學(xué)元件的制造
?加速器、放射線設(shè)施、聚變研究
?熱處理
?研發(fā)
* 對(duì)于清潔工藝，請(qǐng)選擇 TG-F 系列、TG-M 系列或 TGkine 系列。
渦輪分子泵的典型應(yīng)用領(lǐng)域
（一）半導(dǎo)體制造
晶圓加工設(shè)備（刻蝕、離子注入等）
光刻機(jī)真空系統(tǒng)
半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備
（二）科學(xué)研究
高能物理實(shí)驗(yàn)裝置
表面分析儀器（XPS、AES等）
空間環(huán)境模擬設(shè)備
（三）分析儀器
質(zhì)譜儀
電子顯微鏡
同步輻射裝置
（四）特種工藝
分子束外延（MBE）
納米材料制備
精密光學(xué)鍍膜
（五）新興領(lǐng)域
量子計(jì)算研究
核聚變實(shí)驗(yàn)裝置
先進(jìn)材料研發(fā)
高斯摩(成都)國(guó)際貿(mào)易有限公司 - 主營(yíng)產(chǎn)品： 主要經(jīng)營(yíng)光學(xué)設(shè)備、電子計(jì)測(cè)、科學(xué)儀器、機(jī)械加工設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn) ...
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