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ED-1200MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
| 參考價(jià): | ￥ 13000 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)- ED-1200 產(chǎn)品型號(hào)
- MIKASA/米卡薩 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 成都市 所在地
訪問(wèn)次數(shù)：65更新時(shí)間：2025-05-28 15:30:43
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。
產(chǎn)品介紹
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 ED-1200
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 ED-1200
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備，主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設(shè)備通過(guò)化學(xué)溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分，形成所需圖案；蝕刻設(shè)備則通過(guò)物理或化學(xué)方法去除未被光刻膠保護(hù)的基底材料，實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。
主要設(shè)備類型：
顯影設(shè)備：
噴淋式顯影機(jī)
浸漬式顯影機(jī)
超聲波輔助顯影機(jī)
蝕刻設(shè)備：
濕法蝕刻設(shè)備（化學(xué)溶液）
干法蝕刻設(shè)備（等離子體）
反應(yīng)離子蝕刻（RIE）
深硅蝕刻（DRIE）
設(shè)備優(yōu)點(diǎn)
工藝優(yōu)勢(shì)：
高分辨率圖形轉(zhuǎn)移
優(yōu)異的選擇比控制
低損傷加工
生產(chǎn)效益：
高吞吐量（最高300片/小時(shí)）
工藝穩(wěn)定性好（CPK>1.67）
設(shè)備利用率高（>90%）
成本優(yōu)勢(shì)：
材料消耗低
維護(hù)成本可控
能耗優(yōu)化
技術(shù)優(yōu)勢(shì)：
支持優(yōu)良節(jié)點(diǎn)工藝
兼容多種技術(shù)路線
便于工藝升級(jí)
質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)：
缺陷率低（<0.1%）
均勻性好（<3%）
重復(fù)性高
顯影和蝕刻設(shè)備作為微納制造的關(guān)鍵裝備，其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷推進(jìn)和新興應(yīng)用的涌現(xiàn)，新一代設(shè)備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來(lái)，這些設(shè)備將繼續(xù)在推動(dòng)信息技術(shù)進(jìn)步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。
室 | 聚氯乙烯 | 轉(zhuǎn)速 | 0~3,000轉(zhuǎn)/分 |
基板尺寸 | φ1“~φ6" （150×150mm） | 聯(lián) 鎖 | 真空吸附確認(rèn)傳感器 加工腔蓋聯(lián)鎖 噴嘴移動(dòng)超限 限制器 |
化學(xué)泵送 | 內(nèi)置泵使用 | ||
化學(xué)品排放 | 噴霧排放 （擺動(dòng)噴嘴型） | 權(quán)力 | 交流 100V 4A |
| 尺寸 （mm） 當(dāng)門(mén)打開(kāi)時(shí) | 550W×440H×400D 740H | ||
步數(shù) | 96 步 跳拷貝功能 | ||
| 程序模式 | 10 模式 | 重量 | 33 千克 |
| 工藝（標(biāo)準(zhǔn)） | 顯影劑：1 行， 漂洗：1 行， 背洗：1 個(gè)系統(tǒng) | 關(guān)鍵選項(xiàng) | 化學(xué)溫度管理系統(tǒng) （加壓法） 各種基板支架 安裝工作臺(tái) |
| 使用的化學(xué)品 | 酸基蝕刻劑 |
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