型號(hào)：GVC-2000/GVC-2000P/GVC-2000TD

磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡；低壓大電流濺射，效率更高。

磁控離子濺射儀設(shè)備特點(diǎn)：

基本無(wú)溫升、樣品表面無(wú)熱損失

顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡

低壓大電流濺射，效率更高

公司深耕國(guó)內(nèi)科研市場(chǎng)近十年，以中科院等專業(yè)院所背景的技術(shù)力量為依托， 為國(guó)內(nèi)各大科研機(jī)構(gòu)及材料研究客戶提供科研儀器設(shè)備和專業(yè)技術(shù)服務(wù)。公司以代理國(guó)內(nèi)外材料化工方向的儀器設(shè)備為核心業(yè)務(wù)，產(chǎn)品覆蓋材料制備、表征、光、熱、 電、磁等研究領(lǐng)域。