目錄:青島昕瑞德環(huán)?？萍加邢薰?/a>>>電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備>> 電子超純水系統(tǒng)
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更新時(shí)間：2025-05-12 17:56:37瀏覽次數(shù)：216評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
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以下是電子超純水系統(tǒng)的介紹：
系統(tǒng)概述
電子超純水系統(tǒng)是專為電子行業(yè)生產(chǎn)超高純度水的設(shè)備，能為芯片制造、半導(dǎo)體加工等對(duì)水質(zhì)要求高的工藝提供優(yōu)質(zhì)水源，去除水中幾乎所有的雜質(zhì)，滿足精密制造對(duì)水質(zhì)的嚴(yán)苛要求。
系統(tǒng)構(gòu)成
- 預(yù)處理系統(tǒng)：包括多介質(zhì)過(guò)濾器去除懸浮物、泥沙等大顆粒雜質(zhì)；活性炭過(guò)濾器吸附余氯、有機(jī)物等；精密過(guò)濾器攔截更小粒徑的顆粒，保護(hù)后續(xù)設(shè)備。
- 反滲透系統(tǒng)：利用高壓泵使水通過(guò)反滲透膜，去除水中的大部分鹽分、有機(jī)物、微生物等，是除鹽的關(guān)鍵步驟。
- 離子交換系統(tǒng)：通常采用混床樹(shù)脂，進(jìn)一步去除水中殘留的微量離子，實(shí)現(xiàn)深度除鹽，提高水的純度。
- 精處理系統(tǒng)：有超濾裝置去除微小顆粒和膠體；紫外線殺菌器殺滅細(xì)菌和病毒；拋光混床對(duì)水質(zhì)進(jìn)行最終的精細(xì)處理，確保水質(zhì)達(dá)到超純標(biāo)準(zhǔn)。
- 供水系統(tǒng)：由超純水儲(chǔ)存罐（氮封水箱）和輸送泵等組成，通過(guò)循環(huán)管路將超純水穩(wěn)定地輸送到各個(gè)用水點(diǎn)，保證用水的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
系統(tǒng)特點(diǎn)
- 超高水質(zhì)：能生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ·cm以上的超純水，滿足電子行業(yè)嚴(yán)格的水質(zhì)要求。
- 自動(dòng)化程度高：采用先進(jìn)的自動(dòng)化控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控、自動(dòng)調(diào)節(jié)運(yùn)行參數(shù)、故障報(bào)警和診斷等功能，減少人工操作，提高系統(tǒng)運(yùn)行的可靠性和穩(wěn)定性。
- 穩(wěn)定運(yùn)行：系統(tǒng)設(shè)計(jì)合理，關(guān)鍵設(shè)備采用高品質(zhì)材料和部件，具備良好的抗腐蝕、抗污染能力，可長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行，降低維護(hù)成本。
應(yīng)用領(lǐng)域
- 半導(dǎo)體制造：用于芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝，防止雜質(zhì)影響芯片性能和成品率。
- 顯示面板生產(chǎn)：如液晶面板、OLED面板制造中的鍍膜、清洗等工序，保證面板的顯示質(zhì)量和穩(wěn)定性。
- 電子元器件生產(chǎn)：在電容器、電阻器、集成電路封裝等生產(chǎn)過(guò)程中，提供高純度的清洗用水和工藝用水。
核心技術(shù)指標(biāo)
指標(biāo) | 半導(dǎo)體行業(yè)要求 | 技術(shù)參數(shù)說(shuō)明 |
電阻率 | ≥18.2 MΩ·cm（25℃，SEMI F78） | 動(dòng)態(tài)穩(wěn)定，波動(dòng)≤±0.1 MΩ·cm，反映離子含量極低。 |
硼離子（B3?） | ≤0.05 μg/L（ASTM-D5127-13） | 硼為P型摻雜劑，過(guò)量會(huì)導(dǎo)致n型硅反型，需通過(guò)靶向樹(shù)脂深度去除至≤1 ppt（部分工藝）。 |
總有機(jī)碳（TOC） | ≤5 ppb | 有機(jī)物影響半導(dǎo)體材料性能，需185nm波長(zhǎng)紫外線+活性炭聯(lián)合處理。 |
金屬離子 | ≤1 ppt（Na?、K?、Fe3?等） | 堿金屬和重金屬導(dǎo)致PN結(jié)失效，通過(guò)離子交換樹(shù)脂精準(zhǔn)控制。 |
顆粒污染 | ≤200個(gè)/mL（≥0.05μm，SEMI F83） | 亞微米級(jí)顆粒需通過(guò)超濾+精密過(guò)濾去除，防止電路短路。 |
微生物 | ≤0.1 CFU/mL | 微生物代謝產(chǎn)物含磷，需紫外線殺菌+0.22μm終端過(guò)濾。 |
典型工藝
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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