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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板...
    型號(hào)： VPG 800 /... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:56:11 對(duì)比

  • RIE等離子蝕刻系統(tǒng)

    SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計(jì)。
    型號(hào)： SENTECH E... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:54:22 對(duì)比

  • 精密型烤膠機(jī)

    HP6精密型烤膠機(jī)，全鋁機(jī)身，高精度控溫，獨(dú)立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
    型號(hào)： HP6 所在地：南京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:49:55 對(duì)比

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體 （ICP） 處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:47:43 對(duì)比

  • 程控烤膠機(jī)

    LEBO science HP100-SE程控烤膠機(jī)，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務(wù)，實(shí)驗(yàn)理想之選。
    型號(hào)： HP100-SE標(biāo)... 所在地：南京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:45:23 對(duì)比

  • 投影掃描光刻機(jī)

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機(jī)‐DSC300投影掃描光刻機(jī)。這種專有的掃描光刻平臺(tái)擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達(dá)到解析度（ 2 μm）的分辨...
    型號(hào)： DSC300 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:41:10 對(duì)比

  • 控溫型勻膠機(jī)

    控溫型勻膠機(jī)，性能優(yōu)秀，專業(yè)服務(wù)，高品質(zhì)材料，安全設(shè)計(jì)，桌面實(shí)驗(yàn)理想選擇，為科學(xué)儀器領(lǐng)域的優(yōu)選產(chǎn)品。
    型號(hào)： IC8000-S 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:39:31 對(duì)比

  • 程控伺服勻膠機(jī)

    AC200-S-PP勻膠機(jī)，伺服驅(qū)動(dòng)，PLC控制，7寸觸屏，真空可調(diào)，支持加熱，工業(yè)級(jí)應(yīng)用，處理基片能力強(qiáng)。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機(jī)的核心特性與...
    型號(hào)： AC200-S-P... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:35:09 對(duì)比

  • 程控伺服勻膠機(jī)

    AC200-SE程控伺服勻膠機(jī)，高精度伺服驅(qū)動(dòng)，PLC智能控制，7寸觸屏操作，耐溶劑材質(zhì)，適用于多種工業(yè)應(yīng)用。
    型號(hào)： AC200-SE標(biāo)... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:27:39 對(duì)比

  • 小巧型勻膠機(jī)

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機(jī)，小巧耐腐蝕，適用于手套箱內(nèi)，液晶顯示，程序可調(diào)，支持4寸底物，鋁合金/PP外殼可選。
    型號(hào)： EZ4-S 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:26:01 對(duì)比

  • 紫外臭氧清洗機(jī)

    這款紫外臭氧清洗機(jī)，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計(jì)，便捷高效，質(zhì)量有保障，專業(yè)服務(wù)，是科研與實(shí)驗(yàn)的理想伙伴。
    型號(hào)： UC100-SE 所在地：南京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:19:40 對(duì)比

  • 等離子清洗機(jī)

    LEBO science的PT500真空等離子清洗機(jī)，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點(diǎn)：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
    型號(hào)： PT500 所在地：南京市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:11:22 對(duì)比

  • 通用晶圓鍵合平臺(tái)

    通用晶圓鍵合平臺(tái)設(shè)計(jì)用于（混合）熱鍵合對(duì)準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓。 其高度模塊化的設(shè)計(jì)便于客戶以低擁有成本來(lái)實(shí)現(xiàn)極大的配置靈活性。 提供多種配置，可滿足研...
    型號(hào)： XBS300 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:09:28 對(duì)比

  • 反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

    PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：英國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:07:34 對(duì)比

  • 晶圓鍵合機(jī)

    新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機(jī) 是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設(shè)備中的平臺(tái)： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
    型號(hào)： XBC300 Ge... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:05:45 對(duì)比

  • EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)

    EvoVac PVD 平臺(tái)可以做任何您需要的事情。它有一個(gè)大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺(tái)是我們具有可定制性的單腔室平臺(tái)...
    型號(hào)： 埃沃維克 所在地：加拿大 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 7:58:49 對(duì)比

  • 高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

    EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計(jì)。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、樣品臺(tái)、真空獲得與測(cè)量系統(tǒng)、氣路系...
    型號(hào)： EC400 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 7:56:35 對(duì)比

  • 反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

    PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)...
    型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 7:47:48 對(duì)比

  • Amod物理氣相沉積平臺(tái)

    Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺(tái)是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺(tái)開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的...
    型號(hào)： 所在地：加拿大 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 7:46:15 對(duì)比

  • 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

    SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺(tái)：MA100/150e Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
    型號(hào)： MA100/150... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 7:44:22 對(duì)比
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