OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)，由OTL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)組成。  

OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)主要特點(diǎn)：  

1、通過(guò)射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。  

2、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。  

3、可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。  

4、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。  

5、廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長(zhǎng)，如：SiOx,SiNx,SiOxNy和無(wú)定型硅(a-Si:H)等。  

OTL-PECVD-1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)以瑞典Kanthal電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料，爐管兩端能不銹鋼法蘭密封，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門(mén)和壓力表，抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10-3Pa，具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能、*等優(yōu)點(diǎn)。  

(1)、表面溫度高可達(dá)1420℃  

(2)、表面為不銹鋼色（非常亮、客戶識(shí)別時(shí)要注意）、不會(huì)生銹，使用時(shí)間再長(zhǎng)都不會(huì)掉渣。  

(3)、Kanthal電阻絲資料下載  

(4)、Kanthal電阻絲網(wǎng)站

(5)、電阻均衡、溫場(chǎng)均衡性好  

當(dāng)電路過(guò)流或漏電時(shí)，空開(kāi)會(huì)自動(dòng)斷開(kāi)。  

爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過(guò)電腦控制爐子的各個(gè)參數(shù)，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運(yùn)行情況，爐子的實(shí)際升溫曲線電腦會(huì)實(shí)時(shí)繪出，并能把每個(gè)時(shí)刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來(lái)，隨時(shí)可以調(diào)出  

1、真空吸濾成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛。  

2、采用日本技術(shù)成型。  

3、爐膛里電阻絲的間距和節(jié)距全部按日本*的熱工技術(shù)布置、經(jīng)過(guò)熱工軟件模擬溫場(chǎng)  

4、采用4周加熱，溫場(chǎng)更加均衡