簡稱中科科儀，歷經(jīng)六十余年的發(fā)展，始終致力于電子光學(xué)和真空技術(shù)領(lǐng)域，公司業(yè)務(wù)領(lǐng)域覆蓋掃描電子顯微鏡、氦質(zhì)譜檢漏儀等科學(xué)儀器設(shè)備和分子泵、真空應(yīng)用設(shè)備等核心零部件及產(chǎn)業(yè)設(shè)備，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、半導(dǎo)體、汽車工業(yè)、新能源、新材料、節(jié)能環(huán)保等前沿科學(xué)研究和裝備制造領(lǐng)域。磁懸浮分子泵CXF-200/1401緊湊型結(jié)構(gòu)，滿足更小的物理空間需求、任意角度安裝，適合各種設(shè)計(jì)需求、豐富擴(kuò)展功能，滿足客戶定

CXF-200/1401

產(chǎn)品特點(diǎn)：

節(jié)能：無摩擦，避免摩擦熱損耗、較其它類型產(chǎn)品能耗降低30％

高效：更長的連續(xù)工作時(shí)間、高氣流量和高抽速

靈活：緊湊型結(jié)構(gòu)，滿足更小的物理空間需求、任意角度安裝，適合各種設(shè)計(jì)需求、豐富擴(kuò)展功能，滿足客戶定制化需求

應(yīng)用領(lǐng)域：

科研、加速器、碳化硅、晶體晶振、光伏、Low-E玻璃鍍膜、ITO鍍膜、光學(xué)鍍膜、裝飾鍍膜、平板顯示、真空爐

電真空、新能源、新材料、真空干燥、低溫制冷、薄膜沉積、刻蝕、離子注入、光刻、電子器件

技術(shù)參數(shù)：

進(jìn)氣口法蘭：DN200 ISO F（標(biāo)配）  DN200 CF(可選)   DN200 LF(可定制) 

排氣口法蘭：KF40

抽速速率(L/S)：N₂:1280   Ar:1100    He:880    H₂:560

壓縮比：N2:＞1E8    Ar:＞1E8    He:＞1E4    H2:＞1E3

極限壓強(qiáng)（Pa）：1E-7（橡膠密封）   1E-8（金屬密封）  

最大瞬時(shí)入口流量（sccm）：1100

保護(hù)氣入口法蘭（選配）：KF10

推薦保護(hù)氣體流量:20

最大允許磁場強(qiáng)度:  徑向：3  軸向：15

額定轉(zhuǎn)速（rpm）:30000

啟動(dòng)時(shí)間（min）:≤6

停機(jī)時(shí)間（min）：≤8

冷卻方式：水冷

冷卻水流量（L/min）：2

推薦冷卻水溫度（℃）：20±5

電源電壓（V AC）： 220±10％，50Hz          110±10％，60Hz

適配電源型號：CXFD-1001

建議前級泵： ≥16

重量（kg）：51

產(chǎn)品尺寸圖：