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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma 平凹透鏡-3

這些透鏡的邊緣比中心厚，一側(cè)平坦。平凹透鏡用于擴(kuò)展光束或增加光學(xué)系統(tǒng)的焦距。

Eksma 平凹透鏡-3

產(chǎn)品介紹

Ø焦距為負(fù)

Ø散發(fā)準(zhǔn)直入射光

Ø僅形成通過鏡頭看到的虛像

Ø以負(fù)無限或近無限共軛比率降低球差，彗形像差和畸變

Ø凹面朝向較長的共軛距離

這些透鏡的邊緣比中心厚，一側(cè)平坦。平凹透鏡用于擴(kuò)展光束或增加光學(xué)系統(tǒng)的焦距。它們通常用于高峰值功率脈沖激光器的光束擴(kuò)展。入射在凹面上的光束將聚焦到儀器外部的一點(diǎn)。

伴隨模式中斷或材料損壞，可能會在不需要的焦點(diǎn)處進(jìn)行空氣加熱和電離。為避免此問題，應(yīng)反轉(zhuǎn)輸入透鏡，以使凹面不面對平行光束。

這些鏡片可使用多種抗反射鍍膜。對于合適的鍍膜，請參考“鍍膜”部分。如果需要，我們可以提供定制的切割，磨邊，鍍膜或完整的加工。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品信息

CaF2, Size: dia 25.4 mm

型號	材料	焦距	直徑	ROC	CT	ET	鍍膜
112-5204E	CaF2	-40 mm	25.4 mm	-16.7 mm	2.5 mm	7.8 mm	Uncoated
112-5205E	CaF2	-50 mm	25.4 mm	-20.9 mm	2.7 mm	7 mm	Uncoated
112-5209E	CaF2	-75 mm	25.4 mm	-31.4 mm	2.8 mm	5.5 mm	Uncoated
112-5211E	CaF2	-100 mm	25.4 mm	-41.8 mm	3 mm	5 mm	Uncoated
112-5217E	CaF2	-150 mm	25.4 mm	-62.7 mm	2.7 mm	4 mm	Uncoated
112-5219E	CaF2	-200 mm	25.4 mm	-83.6 mm	3 mm	4 mm	Uncoated
112-5223E	CaF2	-250 mm	25.4 mm	-104.6 mm	3.2 mm	4 mm	Uncoated
112-5225E	CaF2	-300 mm	25.4 mm	-125.5 mm	3.4 mm	4 mm	Uncoated
112-5228E	CaF2	-400 mm	25.4 mm	-167.3 mm	3.5 mm	4 mm	Uncoated
112-5230E	CaF2	-500 mm	25.4 mm	-209.1 mm	2.6 mm	3 mm	Uncoated
112-5235E	CaF2	-1000 mm	25.4 mm	-418.2 mm	2.8 mm	3 mm	Uncoated

CaF2, Size: dia 50.8 mm

型號	材料	焦距	直徑	ROC	CT	ET	鍍膜
112-5519E	CaF2	-200 mm	50.8 mm	-83.6 mm	3.6 mm	7.2 mm	Uncoated
112-5525E	CaF2	-300 mm	50.8 mm	-125.5 mm	3 mm	5.6 mm	Uncoated
112-5530E	CaF2	-500 mm	50.8 mm	-209.1 mm	4 mm	5.5 mm	Uncoated

Stock Standard Lenses with AR Coatings

型號	材料	焦距	直徑	ROC	CT	ET	鍍膜
112-1105E+AR1064HT	UVFS	-25 mm	12.7 mm	-11.9 mm	1.3 mm	3 mm	AR/AR@1064 nm, R<0.1%
112-1109E+ARD1030HT	UVFS	-50 mm	12.7 mm	-23.8 mm	2.2 mm	3 mm	AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%
112-1121E+AR1030HT	UVFS	-175 mm	12.7 mm	-83.2 mm	2.8 mm	3 mm	AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%
112-1205E+ARB300	UVFS	-50 mm	25.4 mm	-23.8 mm	1.9 mm	5.5 mm	AR/AR@210-400 nm, R<2%
112-1205E+AR515HT	UVFS	-50 mm	25.4 mm	-23.8 mm	1.9 mm	5.5 mm	AR/AR@500-530 nm, R<0.1%
112-1205E+ARB800HT	UVFS	-50 mm	25.4 mm	-23.8 mm	1.9 mm	5.5 mm	AR/AR@700-900 nm, R<0.1%
112-1211E+AR1030HT	UVFS	-100 mm	25.4 mm	-47.6 mm	3 mm	4.7 mm	AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%
112-1211E+ARB1000HT	UVFS	-100 mm	25.4 mm	-47.6 mm	3 mm	4.7 mm	AR/AR@900-1100 nm, R<0.1%
112-1215E+ARD1064HT	UVFS	-125 mm	25.4 mm	-59.4 mm	3 mm	4.4 mm	AR/AR@532+1064 nm, R<0.1%
112-1217E+AR1030HT	UVFS	-150 mm	25.4 mm	-71.3 mm	3.1 mm	4.2 mm	AR/AR@1000-1060 nm, R<0.1%
112-1217E+ARB800HT	UVFS	-150 mm	25.4 mm	-71.3 mm	3.1 mm	4.2 mm	AR/AR@700-900 nm, R<0.1%
112-1217E+ARD1030HT	UVFS	-150 mm	25.4 mm	-71.3 mm	3.1 mm	4.2 mm	AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%
112-1219E+AR800HT	UVFS	-200 mm	25.4 mm	-95.1 mm	3.1 mm	4 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1219E+ARD1030HT	UVFS	-200 mm	25.4 mm	-95.1 mm	3.1 mm	4 mm	AR/AR@515+1030 nm, R<0.1%
112-1221E+AR800HT	UVFS	-250 mm	25.4 mm	-118.9 mm	3.3 mm	4 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1223E+AR800HT	UVFS	-300 mm	25.4 mm	-142.7 mm	3.4 mm	4 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1255E+AR800HT	UVFS	-5000 mm	25.4 mm	-2377.5 mm	2 mm	4 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1509E+AR800HT	UVFS	-100 mm	50.8 mm	-47.6 mm	5 mm	11.9 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1512E+AR800HT	UVFS	-150 mm	50.8 mm	-71.4 mm	3.2 mm	7.9 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1517E+AR800HT	UVFS	-250 mm	50.8 mm	-118.9 mm	3.1 mm	5.7 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%
112-1519E+AR800HT	UVFS	-300 mm	50.8 mm	-142.8 mm	3.5 mm	5.8 mm	AR/AR@760-840 nm, R<0.1%

材料	BK7, UV FS, CaF2
表面質(zhì)量	40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
通光孔徑	90% of the diameter
直徑公差	+0.00-0.12 mm
厚度公差	±0.2 mm
表面不規(guī)則	λ/8 @ 633 nm
CaF2表面不規(guī)則	λ/4 @ 633 nm
同心度	3 arcmin
近軸焦距： BK7 紫外線FS 鈣2	±2% @ 546 nm ±2% @ 355 nm ±2% @ 2940 nm

EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。