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價(jià)格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器

990-0071

Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器

Eksma 飛秒級(jí)線性偏振激光束可變衰減器

將激光束分成兩束，分別由68°的手動(dòng)可調(diào)強(qiáng)度比，較大的動(dòng)態(tài)范圍，可忽略的透射光束偏差組成。

產(chǎn)品介紹

?將激光束分為兩束，分別由手動(dòng)調(diào)節(jié)強(qiáng)度比的68°角分開

?大動(dòng)態(tài)范圍

?可以忽略的透射光束偏差

?高光學(xué)損傷閾值

?透射光束的衰減范圍：0.5％-95％反射光束的衰減范圍：5％-99.5％

該可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計(jì)的光機(jī)械適配器，用于偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機(jī)械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光，同時(shí)透射P偏振光，可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中?？梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個(gè)光束的強(qiáng)度比，而不會(huì)改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對(duì)比度。

產(chǎn)品型號(hào)

飛秒激光脈沖

型號(hào)	波長(zhǎng)	激光損傷閾值
990-0071-343	343 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400	400 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400B	390-410 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515	515 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515B	505-525 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800	800 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800B	780-820 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030	1030 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030B	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應(yīng)用

型號(hào)	波長(zhǎng)	激光損傷閾值
990-0071-266H	266 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-343H	343 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400H	400 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-400HB	390-410 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515H	515 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-515HB	505-525 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800H	800 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-800HB	780-820 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030H	1030 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm
990-0071-1030HB	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

飛秒應(yīng)用

孔徑	10 mm
損害閾值大功率激光應(yīng)用：	> 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型
時(shí)間色散	對(duì)于100 fs Ti：藍(lán)寶石激光脈沖，t<4 fs
偏振對(duì)比	>1:200

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。