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| 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 | 光學精度 | 10μm |
|---|---|---|---|
| 打印材料 | 光敏樹脂 | 打印層厚 | 10-40μm |
| 最大打印尺寸 | 19.2mm(L)×10。8mm(W)×45mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、科研3D打印機介紹
nanoArch P140是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應用創(chuàng)新。
微納制造 精密必現(xiàn)
nanoArch P140是可以實現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL：Projection Micro Stereolithography）
二、科研3D打印機nanoArch P140 系統(tǒng)簡介
nanoArch P140是可以實現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢，被認為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。
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