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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保 |
|---|---|---|---|
| 范圍 | 0.3?～3?m/s |
通過(guò)等離子體方法，對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
離子去膠機(jī) 型號(hào)：PR-3
離子去膠機(jī)
通過(guò)等離子體方法，對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣。
腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英
真空室規(guī)格：F210′300mm
限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
真空系統(tǒng):機(jī)械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量：4英寸 25片/爐
去膠速率: ～500A/min
去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi))
操作方式:手動(dòng)方式
用戶可選配全自動(dòng)控制方式
通過(guò)等離子體方法，對(duì)陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進(jìn)行干法去除。設(shè)備為單室真空系統(tǒng)，主要由真空系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、報(bào)警系統(tǒng)等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統(tǒng)采用兩臺(tái)浮子流量計(jì)控制氣體進(jìn)氣。
腔室結(jié)構(gòu)：臥式、純石英
真空室規(guī)格：F210′300mm
限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
真空系統(tǒng):機(jī)械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量：4英寸 25片/爐
去膠速率: ～500A/min
去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內(nèi))
操作方式:手動(dòng)方式
用戶可選配全自動(dòng)控制方式
