產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
真空旋轉(zhuǎn)涂膜機
1、引言
主要應(yīng)用于大專院校、科研院所的實驗室中的薄膜形成。本機利用高速旋轉(zhuǎn)使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面
2、主要技術(shù)指標(biāo)
電源:AC220V 50Hz
功率:200W
旋轉(zhuǎn)盤:?200mm
轉(zhuǎn)速:500rpm-6000rpm
時間:1s-60s
真空泵流速:>60L/min
尺寸:500mm×400mm×400mm
重量:30kg
我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售:洛式硬度計,維式硬度計,布氏硬度計,顯微維氏硬度計,便攜式硬度計,磁力式洛式硬度計,里氏硬度計,超聲波硬度計,金相切割機,全自動金相試樣切割機,金相磨拋機,金相預(yù)磨機,金相拋光機,全自動金相試樣磨拋機,手動金相試樣鑲嵌機,全自動金相鑲嵌機。金相拋光劑,金相拋光粉,金相砂紙,金相拋光布,金相切割片,冷鑲嵌樹脂,金相鑲嵌粉,導(dǎo)電鑲嵌粉,透明鑲嵌粉,倒置金相顯微鏡,正置金相顯微鏡,進口金相顯微鏡,體視顯微鏡,視頻顯微鏡,生物顯微鏡,熒光顯微鏡,手動影像測量儀,全自動影像測量儀,一鍵閃測儀,測量投影儀。粗糙度儀,輪廓儀,圓柱度儀
一、設(shè)備定義與工作原理
基本定義
真空旋轉(zhuǎn)涂膜機是一種在真空或惰性氣體環(huán)境中,通過旋轉(zhuǎn)基材實現(xiàn)均勻涂層的設(shè)備。其核心功能是解決常規(guī)涂膜無法處理的材料氧化、揮發(fā)或均勻性問題工作原理
真空吸附固定:樣品通過真空吸盤固定在旋轉(zhuǎn)平臺上,避免偏心震動
分段程序控制:設(shè)備支持多段轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)(通常6-16段程序),每段可獨立設(shè)置轉(zhuǎn)速(500-20,000rpm)、加速率(100-6,000rpm/s)及時間(0-999s),實現(xiàn)從低速注膠到高速勻膠的過渡
濺射涂覆:在真空環(huán)境下,靶材材料被濺射到旋轉(zhuǎn)基材表面,形成均勻薄膜
二、核心結(jié)構(gòu)與技術(shù)特點
關(guān)鍵組件
| 組件 | 功能說明 |
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| 真空腔體 | 聚丙烯或聚四氟乙烯材質(zhì),耐強酸/強堿腐蝕(如VTC-100PA型號)
| 直流無刷電機 | 提供無級調(diào)速,噪音低、啟停平穩(wěn),確保涂層厚度一致性
| 無油真空泵 | 避免油污污染,抽氣流量≥60L/min,真空度達-0.08MPa或1Torr
| 多規(guī)格吸盤 | 適配φ19mm至φ203.5mm樣品,支持快速更換智能控制與安全設(shè)計
觸摸屏/液晶控制:支持中英文界面,可存儲12-16組程序(如VTC-100PAH)
開蓋保護:運行中開蓋自動減速停機,防止意外
惰性氣體兼容:可在Ar、N?等氣氛中操作,保護敏感材料
三、核心應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體與光學(xué)器件
晶圓光刻膠涂覆、光盤表面鍍膜(如VTC-200PV型號)
防止氧化材料(如鈣鈦礦)的薄膜制備
材料研究與特殊場景
強酸/堿溶液涂膜(如瀝青混合料測試)
高溫涂膜需求:可選配加熱功能(RT-200℃)
科研與質(zhì)量控制
高校及研究所的薄膜生成實驗(如VTC-100系列)
工業(yè)領(lǐng)域的小批量生產(chǎn)質(zhì)量控制
四、選型要點參考
| 參數(shù) | 典型范圍 | 選型建議 |
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| 轉(zhuǎn)速范圍 | 500-20,000rpm | 高精度實驗選>10,000rpm型號(如VTC-100PAH)
| 程序段數(shù) | 6-16段 | 復(fù)雜工藝需多段控制
| 真空度 | -0.08MPa至1Torr | 高揮發(fā)材料需更高真空
| 耐腐蝕性 | 聚丙烯/聚四氟乙烯腔體 | 強酸/堿環(huán)境必選|
五、典型型號對比
| 型號 | 轉(zhuǎn)速(rpm) | 程序段數(shù) | 特殊功能 | 適用場景 |
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| VTC-100PA | 500-10,000 | 6段×12組 | 耐強酸/堿腔體 | 常規(guī)實驗室涂膜
| VTC-200PV | 500-6,000 | 6段×12組 | 真空/惰性氣體雙模式 | 易氧化材料
| VTC-100PAH | 1,500-20,000| 16段 | 7寸觸控屏,高溫選項(RT-200℃)| 科研