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當(dāng)前位置：上海富瞻環(huán)?？萍加邢薰?/a>>>半導(dǎo)體行業(yè)儀器>> J200 iXiX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號J200 iX
品 牌美國Applied Spectra
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時間：2024-11-09 12:57:37瀏覽次數(shù)：281次
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
簡介
J200 iX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)是一款高性能的臺式激光剝蝕設(shè)備，適用于高精度同位素及元素比測量。其核心部件為飛秒摻鐿激光器，波長1030nm/343nm，脈沖寬度不超過500飛秒，光斑尺寸可在5-70微米范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。配備雙體積樣品池、冷凍樣品池、移動平臺及光學(xué)成像系統(tǒng)，并支持激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀功能升級。該系統(tǒng)包含操作軟件和數(shù)據(jù)處理軟件，集成于工控機(jī)中，確保高效、精準(zhǔn)的分析能力。
其它參數(shù)
脈沖寬度：500fs
J200 iX飛秒激光剝蝕系統(tǒng)
1 臺式飛秒激光剝蝕系統(tǒng)，直接放置在工作臺面上，使用該設(shè)備可以進(jìn)行高精度同位素和元素比測量進(jìn)樣。
2 激光源：飛秒摻鐿(Yb-KGW)泵浦激光器，脈沖頻率不低于1Hz-1 KHz可調(diào)，激光波長1030nm/343nm, 脈沖寬度：≤500 fsec, 光斑尺寸：可調(diào)整光斑尺寸范圍不小于5-70μm。
3 樣品室：雙體積樣品池，冷凍樣品池等
4 移動平臺
5 光學(xué)成像。
6 氣路單元
7 激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀（LIBS）功能升級選項(xiàng)
8 操作軟件和數(shù)據(jù)處理軟件。
9 工控機(jī)
Photon Machines團(tuán)隊(duì)（縮寫PMI）的激光剝蝕/激光燒蝕產(chǎn)品線為全球之一，其第一代產(chǎn)品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產(chǎn)品設(shè)計(jì)、研發(fā)、制造及應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，產(chǎn)品線涉及213nm固態(tài)激光、193nm準(zhǔn)分子激光、飛秒激光系統(tǒng)（與ICP-MS聯(lián)用），及CO2和二極管激光熔融系統(tǒng)（與惰性氣體同位素質(zhì)譜聯(lián)用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強(qiáng)并完善系統(tǒng)的功能，足以為全球元素分析用戶提供先進(jìn)的激光剝蝕技術(shù)。
Analyte Excite 準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)采用精細(xì)化控制單元，高能量的“平頂 (homogenized-flat)"激光和飛速響應(yīng)的“邊對邊 (shot-to-shot)"技術(shù)帶來高分辨率空間分析能力。創(chuàng)新的“動態(tài)剝蝕功能 (fire-on-the-fly)"采用高分辨率XY移動平臺技術(shù)，同時移動平臺能夠?qū)崟r觸發(fā)激光的發(fā)射，應(yīng)用于線掃描的深度剝蝕和元素分布圖的分析。另外，高分辨率GigE真彩顯微攝像觀察技術(shù)，觀察單元光學(xué)分辨率小于2μm，提供透射、反射和環(huán)形可調(diào)亮度的照明和十字交叉偏振系統(tǒng)，能夠?qū)崟r顯示實(shí)時縮放的動態(tài)寬視野場，實(shí)現(xiàn)快速樣品定位導(dǎo)航。
結(jié)合超短脈沖(<4ns)的193nm氣態(tài)準(zhǔn)分子激光剝蝕系統(tǒng)，Analyte Excite具有高性價比及更廣泛的高效剝蝕應(yīng)用范圍。從不透明到高透明樣品，單次剝蝕深度能夠達(dá)到10 納米以上，同時光束能量均勻化分布，以確保在整個光斑尺寸范圍內(nèi)和各種材料上均勻剝蝕。與寬脈沖(20+ns)的193nm激光系統(tǒng)相比，Analyte Excite能夠產(chǎn)生更高的“峰功率"，更加易于剝蝕樣品，產(chǎn)生更細(xì)粒徑的氣溶膠，能夠得到更小的剝蝕分餾效應(yīng)，促使ICP分析信號更加平穩(wěn)。
超短193nm激光波長
超短脈沖寬度＜4ns
足夠剝蝕各類樣品的能量密度，可達(dá)15J/cm2
密閉氣室
激光束能量分布均勻化，剝蝕均勻
標(biāo)配100x100mm移動平臺
同步“動態(tài)剝蝕功能"實(shí)現(xiàn)精確的剝蝕深度控制
獨(dú)立的視頻和激光光學(xué)控制單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點(diǎn)
剝蝕光斑范圍1-155μm
標(biāo)配32個剝蝕光斑，光斑可定制
兼容HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池
支持升級為Analyte Excite+系統(tǒng)，配置更多高能配件，剝蝕光斑范圍1-245μm
環(huán)境樣品分析，物證樣品分析，地質(zhì)樣品分析，同位素定性分析，元素分布圖繪制分析， 流體包裹體分析，深度剝蝕分析，地質(zhì)年代測定，古溫度測定
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