您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)! 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當(dāng)前位置:那諾中國有限公司>>產(chǎn)品展示
晶圓厚度測量儀 MX 102-8適用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度與平整度(TTV)測量儀。只需幾秒鐘即可輕松適應(yīng)不同厚度范圍,可集成到自動機器...
SURFTENS HL 200 automatic全自動接觸角測量儀專為半導(dǎo)體工業(yè)和科研領(lǐng)域設(shè)計,尤其適用于晶圓涂覆及光刻工藝中的工藝控制。
SURFTENS HL 200 晶圓接觸角測量儀專為半導(dǎo)體工業(yè)及科研領(lǐng)域開發(fā),特別適用于硅片表面處理過程中的工藝控制。它是分析硅片接觸角與潤濕性的理想工具,能夠...
FLATSCAN 薄膜應(yīng)力測試儀用于對各種反射面(如硅片、鏡面、X 射線鏡(Goebel-mirrors)、金屬表面或拋光聚合物)的平整度、表面曲率、平均半徑和...
高精度金剛石晶圓劃片機MR 200 系統(tǒng)軟件的設(shè)置和硬件的配置能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的劃線,從而實現(xiàn)對結(jié)構(gòu)化硅片的精準(zhǔn)切割。MR 200 是一款非常有力的工具,尤其在半...
CMP后清洗機-單晶圓/掩膜版兆聲清洗:Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕...
單晶圓/硅片/掩膜版清洗機:Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻蝕。它可...
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備:Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
SWC4000 掩模版兆聲清洗機:Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻蝕...
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機:如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物,這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進行物理刻蝕則是可能的。樣品表...
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段,憑借質(zhì)譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能,廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、細(xì)胞學(xué)、地質(zhì)礦物學(xué)、半導(dǎo)體、微電子...
SurfaceSeer I是一款高靈敏度、高質(zhì)量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS),可以用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。Su...
Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時間二次離子質(zhì)譜儀,用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。SurfaceSeer ...
Kore SurfaceSeer S在飛行時間二次離子質(zhì)譜儀(TOF-SIMS)系列中,是一款高性價比且經(jīng)久耐用的產(chǎn)品。它是研究樣品表面化學(xué)成分的理想選擇,適用...
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源,...
光學(xué)鍍膜設(shè)備:NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進的技術(shù),在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...
光學(xué)鍍膜系統(tǒng):NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進的技術(shù),在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光,然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣...
進口ALD設(shè)備:ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響,所以在...
等離子去膠機:NANO-MASTER 等離子去膠和等離子灰化機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系...
兆聲清洗機:Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機械手,也可以升級...
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供,信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé),化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示:為規(guī)避購買風(fēng)險,建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。