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哈爾濱*LWK-B2熱處理控制柜
- 發(fā)布日期：
- 有效日期：
- 所 在 地：
- 產(chǎn) 地：
- 已獲點(diǎn)擊：
- 2025年1月8日
- 2025年7月8日
- 上海上海市
- 126次
【產(chǎn)品簡介】
【詳細(xì)說明】
LWK-B2熱處理控制柜熱處理控制柜
LWK-B2熱處理控制柜的詳細(xì)介紹
本機(jī)有六個(gè)獨(dú)立通道,能同時(shí)進(jìn)行一種至六種不同工藝熱處理。 本機(jī)能同時(shí)進(jìn)行三種不同電壓，不同時(shí)間，不同溫度的熱處理
本機(jī)開關(guān)輸出電壓220V，控溫點(diǎn)1個(gè) 本機(jī)可控硅過零觸發(fā)，可調(diào)占空比控溫點(diǎn)1個(gè)，適用移動(dòng)頻繁，小面積加熱場所，如增設(shè)記錄儀，費(fèi)用另加。
型號 | 額定輸出功率（KW） | 輸出電壓（V） | 控溫點(diǎn) | 記錄點(diǎn) |
LWK-A | 30 | 開關(guān)輸出220 | 1 |
|
LWK-A1 | 30 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 1 |
|
LWK-B | 90 | 可控硅移相調(diào)壓0-220V | 3 | 6 |
LWK-B1 | 90 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 3 | 6 |
LWK-B2 | 120 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 3 | 6 |
LWK-C | 180 | 可控硅移相調(diào)壓0-220V | 6 | 12 |
LWK-C1 | 180 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 6 | 12 |
LWK-C2 | 180 | 開關(guān)輸出220 | 6 | 12 |
LWK-C3 | 240 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 6 | 12 |
LWK-D | 360 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 6 | 12 |
LWK-D1 | 360 | 可控硅過零觸發(fā)可調(diào)占空比 | 12 | 12 |
LWK-D2 | 360 | 開關(guān)輸出220 | 6 | 12 |