珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司
使用 NexION 300S / 350S ICP-MS 測定半導體行業(yè)常用有機溶劑中的雜質(zhì)
檢測樣品:異丙醇(IPA) 丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)
檢測項目:雜質(zhì)
方案概述:本應用指南展示了NexION300SICP-MS抗干擾的能力,僅憑一次分析,便可在熱等離子體條件下,輕松地測量IPA和PGMEA中的痕量雜質(zhì),且適用于所有分析物。是在一次分析中,可同時使用標準和反應兩種模式。
半導體行業(yè)中常用的兩種有機溶劑分別是異丙醇(IPA)和丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)。IPA 常用于清潔硅片,PGMEA 則用作光阻劑的稀釋劑或剝離劑。存儲器中如有污染物,會對其可靠性產(chǎn)生不利影響,因此兩者溶劑都必須加以分析,以檢查是否出現(xiàn)痕量金屬污染。SEMI 標準 C41-0705 規(guī)定,在高純度 4 級 IPA 中,每種元素的污染限值不超過 100 ppt。
電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)能夠快速測定各種化工過程中的痕量分析物(ng/L 或萬億分之一),已成為質(zhì)量控制中*的分析工具。然而,在直接對有機溶劑展開分析前,當務之急是解決某些可能存在問題,如粘度和揮發(fā)性、進樣組件的兼容性、碳在錐體接口上的沉積、基質(zhì)衍生的多原子干擾以及碳含量導致的基質(zhì)抑制效應。配備制冷裝置的霧化室有助于降低蒸汽壓,且能優(yōu)化揮發(fā)性有機溶劑的樣品提升速率。通過在霧化室和矩管之間的中心管氣流中加入少量氧氣,可以改善碳在錐體接口上的沉積。
盡管冷等離子體已被證實可有效降低氬氣方面的干擾,但它甚至比熱等離子體更容易抑制基質(zhì)。此外,在低等離子能下,其他多原子干擾會*形成,而在熱等離子體條件下則不會出現(xiàn)這種情況。經(jīng)證實,融合了多極和非反應性氣體的碰撞池技術(shù),可有效降低多原子干擾。然而,動能上的偏差會導致靈敏度的喪失,所以在分析 ng/L 水平時,這是一個問題。反應模式是另一種技術(shù),使用了反應氣體,如 NH3,其可選擇性地與多原子干擾發(fā)生反應,搭配四級桿質(zhì)量篩選器使用可以創(chuàng)造動態(tài)帶通,防止生成不必要的離子副產(chǎn)物,進而有效消除多原子干擾,同時又不影響分析物的信號。
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