BOE清洗設(shè)備
參考價 | ¥ 10000 |
訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 蘇州芯矽電子科技有限公司
- 品牌 芯矽科技
- 型號
- 產(chǎn)地 工業(yè)園區(qū)江浦路41號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/5/6 14:34:45
- 訪問次數(shù) 7
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非標(biāo)定制 | 根據(jù)客戶需求定制 |
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BOE清洗設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃等領(lǐng)域的高精度表面處理設(shè)備,通過化學(xué)或物理方法去除晶圓、硅片等基材表面的污染物(如顆粒、金屬殘留、氧化物等),確保后續(xù)工藝的良率和產(chǎn)品性能。以下是其核心特點(diǎn)與技術(shù)總結(jié):
一、核心功能與工藝原理
主要用途:
用于清洗半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、觸摸屏基材等,去除表面附著的有機(jī)污染物、無機(jī)顆粒、金屬離子及氧化層。
廣泛應(yīng)用于光伏、液晶顯示(LCD)、微電子制造等領(lǐng)域,是PVD、CVD、光刻等工藝的前道關(guān)鍵步驟。
技術(shù)原理:
化學(xué)清洗:通過氟化物溶液(如DHF)或酸性/堿性配方(如SC-1、SC-2)與污染物發(fā)生反應(yīng),生成可溶物質(zhì)后沖洗干凈。例如,HF溶液用于去除硅表面氧化層,SC-1溶液(H?O?+NH?OH)去除有機(jī)物和顆粒。
物理輔助:結(jié)合超聲波、兆聲波或刷洗機(jī)械力,增強(qiáng)微小顆粒(<0.1μm)的剝離效果。超聲波通過空化效應(yīng)打破污染物附著力,而軟質(zhì)刷輪(如聚酯材料)則用于去除頑固殘留。
二、設(shè)備結(jié)構(gòu)與關(guān)鍵組件
槽體系統(tǒng):
采用耐腐蝕材料(如PFA、PTFE),包含酸槽、水槽、干燥槽等模塊化設(shè)計。酸槽用于化學(xué)蝕刻,水槽用于純水沖洗,干燥槽通過IPA蒸干或Marangoni效應(yīng)實現(xiàn)無水痕干燥。
噴淋臂或浸沒式清洗方式,搭配流體動力學(xué)優(yōu)化,確保晶圓表面均勻沖刷。
控制與監(jiān)測單元:
參數(shù)控制:精確調(diào)節(jié)溫度(±0.5℃)、化學(xué)濃度(如折射計實時監(jiān)測)、流量(2-10L/min)和清洗時間(30-120秒),通過PLC或工業(yè)計算機(jī)實現(xiàn)自動化調(diào)控。
在線監(jiān)測:集成激光粒子計數(shù)器、pH計等傳感器,實時檢測顆粒污染水平和化學(xué)液狀態(tài),反饋至控制系統(tǒng)以優(yōu)化參數(shù)。
機(jī)械清洗模塊:
旋轉(zhuǎn)晶圓(300mm晶圓轉(zhuǎn)速100-300rpm)配合軟質(zhì)刷輪,壓力控制在50-200g/cm2,避免劃傷表面。
兆聲波系統(tǒng)(1-3MHz高頻)增強(qiáng)微小顆粒去除能力,適用于制程(如28nm以下)的嚴(yán)格清潔需求。
三、技術(shù)優(yōu)勢與應(yīng)用場景
高效性與均勻性:
多槽串聯(lián)設(shè)計(如“酸洗-漂洗-干燥”三槽聯(lián)動)提升處理效率,單片清洗周期可縮短至幾分鐘。
流體仿真(CFD)優(yōu)化噴淋路徑,確保1500×1850mm大尺寸玻璃基板(如G6 AMOLED)的邊角清潔。
定制化能力:
適應(yīng)不同基材(硅片、石英、藍(lán)寶石)和工藝需求,例如光伏硅片制絨(鏈?zhǔn)絾蚊嫒SG清洗機(jī))、RCA繞鍍清洗(LPCVD后處理)等。
支持手動到全自動配置,滿足實驗室研發(fā)或大規(guī)模生產(chǎn)需求。
環(huán)保與成本優(yōu)化:
化學(xué)液回收系統(tǒng)(如離子交換樹脂再生技術(shù))減少DI水和化學(xué)品消耗,降低運(yùn)行成本。
低能耗干燥技術(shù)(如Marangoni干燥)替代傳統(tǒng)熱風(fēng)烘干,節(jié)省能源并減少碳足跡。
四、行業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造:
用于去除光刻膠殘留、蝕刻后氧化層及金屬污染,保障芯片良率。例如,廈門天馬顯示科技采購的BOE清洗機(jī)專門用于G6 AMOLED基板氧化物去除,設(shè)備長度≤22400mm,適配1500×1850mm玻璃尺寸。
光伏領(lǐng)域:
鏈?zhǔn)絾蚊嫒SG清洗機(jī)用于太陽能電池片磷硅玻璃(PSG)或硼硅玻璃(BSG)的去除,提升電池片光電轉(zhuǎn)換效率。
光學(xué)玻璃加工:
觸摸屏玻璃基材清洗需防潛傷設(shè)計,采用超聲波定時控制與DI水多級沖洗,避免劃痕和水印殘留。
BOE清洗設(shè)備是現(xiàn)代制造的核心工藝設(shè)備,其性能直接影響產(chǎn)品良率和可靠性。未來發(fā)展方向?qū)⒕劢怪悄芑?、環(huán)保化及原子級清潔技術(shù),以匹配更小制程(如3nm以下)和新興材料(如鈣鈦礦、碳化硅)的需求。