掃描電子顯微鏡SEM

蔡司GeminiSEM系列高對(duì)比度、低電壓成像的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

　　具有出色的探測(cè)效率，能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無(wú)論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對(duì)任意樣品進(jìn)行成像和分析時(shí)都具備更佳的靈活性，為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室或是顯微成像平臺(tái)中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像，提供靈活、可靠的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

　　運(yùn)用GeminiSEM系列產(chǎn)品，您可輕松獲取真實(shí)世界中任意樣品出色的圖像和可靠的分析結(jié)果

　　GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在較低的加速電壓下仍可呈現(xiàn)給您更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息，其創(chuàng)新設(shè)計(jì)的NanoVP可變壓力模式，甚至讓您在使用時(shí)擁有在高真空模式下工作的感覺;

　　GeminiSEM 450 具有出色的易用性設(shè)計(jì)、更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度，使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析，充當(dāng)您的得力助手;

　　GeminiSEM 300 具有出色的分辨率、更高的襯度和更大且無(wú)畸變的成像視野，可方便地選取適合樣品的真空度等環(huán)境參數(shù)，使FESEM初學(xué)者也能快速掌握;

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  　　更強(qiáng)的信號(hào)，更豐富的細(xì)節(jié)

  　　GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息，尤其在低的加速電壓下，在避免樣品損傷的同時(shí)快速地獲取更高清晰度的圖像。

  　　經(jīng)優(yōu)化和增強(qiáng)的Inlens探測(cè)器可高效地采集信號(hào)，助您快速地獲取清晰的圖像，并使樣品損傷降至更低;

  　　在低電壓下?lián)碛懈叩男旁氡群透叩囊r度，二次電子圖像分辨率1 kV達(dá)0.9nm，500 V達(dá)1.0 nm，無(wú)需樣品臺(tái)減速即可進(jìn)行高質(zhì)量的低電壓成像，為您呈現(xiàn)任意樣品在納米尺度上更豐富的細(xì)節(jié)信息;

  　　應(yīng)用樣品臺(tái)減速技術(shù)-(Tandem decel)，可在1 kV下獲得高達(dá)0.8nm二次電子圖像分辨率;

  　　創(chuàng)新設(shè)計(jì)的可變壓力模式-NanoVP技術(shù)，讓您擁有身處在高真空模式下工作的感覺。

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  　　更高的速度與靈敏度，更好的成像和分析

  　　GeminiSEM 450更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析，簡(jiǎn)便、快速地進(jìn)行EDS能譜和EBSD等分析，同時(shí)保持出色的空間分辨率，充當(dāng)您的得力助手。

  　　在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低電壓條件下工作時(shí)更為優(yōu)異;

  　　可快速地對(duì)樣品進(jìn)行大范圍及高質(zhì)量成像;

  　　經(jīng)優(yōu)化的電子光學(xué)鏡筒，減少了工作過(guò)程中進(jìn)行重新校準(zhǔn)的復(fù)雜流程，節(jié)省成像時(shí)間，提高工作效率;

  　　無(wú)論是不導(dǎo)電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品，無(wú)論是高真空或是可變壓力模式，均可實(shí)現(xiàn)快速和高質(zhì)量的成像和分析;

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  　　更靈活的成像方式

  　　無(wú)論是資深用戶還是初學(xué)者，GeminiSEM 300將讓您體驗(yàn)到在更高的分辨率和更佳的襯度下進(jìn)行極大視野范圍成像的樂趣，并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實(shí)現(xiàn)。

  　　得益于高效的信號(hào)采集系統(tǒng)和優(yōu)異的分辨率性能，可實(shí)現(xiàn)快速、高質(zhì)量、無(wú)畸變的大范圍成像;

  　　創(chuàng)新設(shè)計(jì)的高分辨率電子槍模式，為對(duì)磁性樣品、不導(dǎo)電樣品以及電子束敏感樣品的低電壓成像量身訂制解決方案;

  　　蔡司獨(dú)樹一幟的鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測(cè)器，在低電壓下也可輕松地獲得高質(zhì)量的樣品材料襯度圖像;

  　　NanoVP技術(shù)讓您可以使用鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測(cè)器對(duì)要求苛刻的不導(dǎo)電樣品進(jìn)行高靈敏度、高分辨成像。