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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>制樣/消解設備>其它消解設備>Centrotherm Oxidator 150 Centrotherm 高溫氧化系統(tǒng)-Oxidator 150

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Centrotherm Oxidator 150 Centrotherm 高溫氧化系統(tǒng)-Oxidator 150

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京亞科晨旭科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 Centrotherm Oxidator 150
  • 產地 德國
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2024/9/25 16:13:33
  • 訪問次數(shù) 1374

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領域的設備集成和技術服務;目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領域經驗豐富的專業(yè)技術團隊,專業(yè)服務于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設備,還能根據客戶的實際生產需求制訂可行的工藝技術方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設備企業(yè)建立了良好的合作關系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進的設備和專業(yè)的技術服務打下了堅實基礎。

 

半導體設備,微組裝設備,LTCC設備,化工檢測設備

產地類別 進口 應用領域 電子/電池

 

Centrotherm 高溫氧化系統(tǒng)-Oxidator 150

一、產品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm Oxidator 150 經過專業(yè)的研發(fā), 能夠滿足 SiC 圓片的高溫氧化工藝; 同時亦可用于常規(guī)的硅圓片的氧化。Centrotherm Oxidator 150 的反應腔具有性能高、占地小和生產成本低等特點,為客戶提供最高的工藝靈活度, 同時能夠保證有毒氣體的安全使用。

設備特點:

爐管和加熱器均處于真空密閉反應腔內,上下料腔室可用Ar N2 進行吹掃,可以保證有毒氣體(如 NON2O、H2、NO2 等) 的安全使用。

氧化工藝使用 N2O 氣氛,可以改善 SiO2/SiC 接觸表面以獲得更高的通道遷移率,同時可提高SiC表面氧化物的穩(wěn)定性和壽命。

提供帶有氫氧合成系統(tǒng)的濕氧工藝。

高達 1350 ℃ 的溫度和其他支持功能為 SiC 氧化工藝和低界面陷阱密度, 高通道移動率的氧化層研制提供可能。

 

二、適用工藝

高溫SiC或Si氧化

氧化后退火(氫氣環(huán)境)

 

三、產品特性

性能

圓片尺寸: 2″、3″、4″、6″

工藝溫度: 900 ℃ ~ 1350 ℃ 

 



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