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動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀D-SIMS

2025-05-20

產(chǎn)      地:
上海市松江區(qū)千帆路288弄G60科創(chuàng)云廊3號樓602室
所在地區(qū):
上海上海市
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  動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術(shù)。
 
  ADEPT-1010 專為淺層半導(dǎo)體注入和絕緣薄膜的自動分析而設(shè)計(jì),是大 多數(shù)半導(dǎo)體開發(fā)和支持實(shí)驗(yàn)室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學(xué)系統(tǒng) 和超高真空設(shè)計(jì),提供了薄膜結(jié)構(gòu)檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。
 
  工作原理:
 
  動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面,使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中,部分濺射出的粒子會帶電,形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸?shù)劫|(zhì)譜儀中進(jìn)行分析,通過質(zhì)譜分析可以確定樣品的化學(xué)組成和元素分布。
 

動態(tài)二次離子質(zhì)譜儀

 

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