鍍銀銅線在廣播通訊、國防工業(yè),甚至衛(wèi)星發(fā)射等重要領域中都有著廣泛應用。憑借耐高溫、導電性能好等顯著優(yōu)勢,其每年的市場需求量巨大。在鍍銀銅線的生產(chǎn)與質量把控環(huán)節(jié),銅基銀線的銀層厚度至關重要,這一參數(shù)不僅直接關聯(lián)著線纜的生產(chǎn)成本,還對線纜的使用性能起著決定性作用,因而一直是商家嚴格管控的關鍵技術指標。目前,商檢部門和測試中心多采用傳統(tǒng)的酸浸退法(化學退鍍法)測定銀層鍍布量,然而該方法存在操作繁瑣、工作量大的問題。更值得注意的是,在退銀過程中,酸浸退法可能會腐蝕基底元素,進而影響分析結果的準確性。
X 射線熒光分析作為一種先進的表面分析技術,應用范圍廣泛,不僅能夠對均勻樣品進行定性、定量分析,還可用于表面狀態(tài)檢測和鍍層厚度測定。X 射線熒光測厚儀便是基于這一技術,用于鍍層厚度測試。
X 射線熒光,也被稱為特征 X 射線,本質上是光電過程中電子躍遷產(chǎn)生的次級 X 射線。原子由原子核和核外電子構成穩(wěn)定結構,核外電子圍繞原子核在不同軌道運行。當高能入射 X 射線與原子碰撞,會打破原子的穩(wěn)定結構,使低能量電子殼層(如 K 層)的電子被激發(fā)并脫離原子,從而產(chǎn)生電子空位。此時,高能量電子殼層(如 L 層)的電子會躍遷到低能量殼層填補空位。由于不同電子殼層間存在能量差,這部分能量會以二次 X 射線的形式釋放。每種元素的原子電子層能級固定,能級差(E)恒定,且 X 射線熒光源于原子內(nèi)層電子躍遷,只能產(chǎn)生有限組譜線,所以不同元素的特征 X 射線譜線具有唯yi性。此外,特定元素產(chǎn)生的 X 熒光光量與其含量(或鍍層厚度)存在嚴格對應關系,這為 X 射線熒光法進行元素定性、定量分析提供了理論依據(jù)和技術基礎。
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