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四方光電塵埃粒子計數(shù)器精準(zhǔn)監(jiān)測微粒污染,助力顯示面板制程良率提升

來源:四方光電(武漢)儀器有限公司   2024年05月24日 15:43  

四方光電塵埃粒子計數(shù)器精準(zhǔn)監(jiān)測微粒污染,助力顯示面板制程良率提升

受益于下游電視、電腦、手機等消費類電子產(chǎn)品以及商顯、車載、醫(yī)療等專顯產(chǎn)品需求的推動,近年來中國顯示面板市場規(guī)模整體呈增長態(tài)勢,由2016年的2984億元增長至2023的5694億元,但整體增速逐步趨緩,市場競爭進一步加劇。中大尺寸市場仍由LCD技術(shù)主導(dǎo),但競爭格局較為固定,需要進一步提升產(chǎn)品良率,降本增效,以提升產(chǎn)品利潤和競爭力。OLED技術(shù)逐漸成熟,占領(lǐng)小尺寸市場,但與LCD相比在工藝成熟度和產(chǎn)品良率上仍有較大的提升空間。綜上,在LCD和OLED面板的制造中,產(chǎn)品良率提升都是下一階段需要迫切解決的問題。



四方光電塵埃粒子計數(shù)器精準(zhǔn)監(jiān)測微粒污染,助力顯示面板制程良率提升


平板顯示制程良率受微粒污染和靜電損害影響

以TFT-LCD為代表的顯示面板生產(chǎn)過程主要有三個工序 Array、Cell 和 Module,制造程序復(fù)雜,制造過程中需要進行嚴(yán)格的環(huán)境管控,減少對產(chǎn)品的損害。OLED因其構(gòu)造簡單,制造流程不像LCD那樣復(fù)雜,但也需要在潔凈環(huán)境中生產(chǎn)。在平板顯示制程中影響產(chǎn)品良率的污染物有很多,包括金屬離子、氣態(tài)分子污染物、微粒、細(xì)菌以及靜電等,其中對LCD和OLED制程良率影響最大的是微粒污染和靜電損害。

• 微粒污染

隨著器件微型化和精細(xì)化進程的加快,高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表面沉積層的厚度都已經(jīng)降到微米級別,更容易受到微粒的影響,基板表面微粒沉積,易引起基板點缺陷甚至線缺陷特性不良,降低良品率。


• 靜電顆粒吸附污染

靜電的產(chǎn)生是因為每一種材料的電子能級不同,兩種不同材料在接觸時會發(fā)生電荷轉(zhuǎn)移。由于靜電的負(fù)面效應(yīng),使得保持高水準(zhǔn)的產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)品良率更加困難。平板顯示制程中常見靜電損害主要有ESA(顆粒吸附)污染、ESD(靜電放電)污染和電磁波干擾引起的設(shè)備故障三種。其中ESA污染是因為產(chǎn)品制程中的移動會造成產(chǎn)品表面有靜電場的存在,它的靜電場會把附近的微粒吸引到它的表面,并且其吸力較大,極難在沒有機械力的情形下清除。微粒的靜電吸附,增加了芯片表面的污染,進而降低了良率。


四方光電塵埃粒子計數(shù)器精準(zhǔn)監(jiān)測微粒污染,助力顯示面板制程良率提升


所以為了提高平板顯示制程良率,在控制靜電損害的同時,也要重視對于微粒的監(jiān)測,保證生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度。通過實時監(jiān)控微粒的變化參數(shù),如果微粒超標(biāo)可以及時發(fā)現(xiàn),采取針對性措施進行防控改善,以減少落在芯片和設(shè)備表面的微塵粒子,降低因為微粒本身和靜電微粒吸附(ESA)造成的產(chǎn)品損壞,提高良率。

四方光電研制的在線塵埃粒子計數(shù)器可以實時監(jiān)測潔凈車間中單位體積內(nèi)空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個數(shù),并通過3.5寸觸摸屏顯示粒徑信息和警報提示,當(dāng)微粒超標(biāo)時可通過內(nèi)置蜂鳴器報警,能有效應(yīng)用于面板生產(chǎn)潔凈車間中,滿足監(jiān)測需求。四方光電在線塵埃粒子計數(shù)器OPC-6303DS/OPC-6510DS/OPC-6511DS采用光學(xué)散射原理,內(nèi)置四方光電的塵源智能識別模塊,具有高效粒子識別率,檢測精度高;內(nèi)置超聲波氣體流量傳感器,實現(xiàn)28.3L恒流采樣,數(shù)據(jù)長期穩(wěn)定性高;低噪音渦輪風(fēng)機采樣,連續(xù)監(jiān)測穩(wěn)定性好,壽命長;滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標(biāo)準(zhǔn),廣泛應(yīng)用于百級、千級、萬級、十萬級等潔凈室環(huán)境。


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