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科電MCW-2000B渦流涂層測(cè)厚儀影響測(cè)量的若干因素

來(lái)源:北京八零時(shí)代檢測(cè)儀器有限公司   2021年09月02日 11:25  

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科電MCW-2000B渦流涂層測(cè)厚儀影響測(cè)量的若干因素

MCW-2000B(渦流)涂層測(cè)厚儀是的結(jié)晶,它采用單片機(jī)技術(shù),精度高、數(shù)字顯示、示值穩(wěn)定、功耗低、操作簡(jiǎn)單方便、觸摸按鍵、單探頭全量程測(cè)量、體積小、重量輕;且具有存儲(chǔ)、讀出、統(tǒng)計(jì)、低電壓指示、系統(tǒng)/零點(diǎn)/兩點(diǎn)校準(zhǔn),其性能達(dá)到當(dāng)代同類儀器的*水平。


應(yīng)用范圍:

本儀器采用渦流測(cè)厚法,可以方便無(wú)損地測(cè)量有色金屬基體上的油漆、塑料、橡膠等涂層的厚度,或者是鋁基體的陽(yáng)極氧化膜的厚度等。該儀器廣泛應(yīng)用于機(jī)械、汽車、造船、石油、化工、電鍍、噴塑、搪瓷、塑料等行業(yè)。


技術(shù)參數(shù):

1、測(cè)量范圍:0~1200um

2、測(cè)量誤差:<3%±1um

3、小示值:1um

4、顯示方式:4位液晶數(shù)字顯示

5、主要功能:

(1).測(cè)量:?jiǎn)翁筋^全量程測(cè)厚

(2).存儲(chǔ)、刪除:可存入測(cè)量數(shù)據(jù)600個(gè),對(duì)測(cè)量中的單個(gè)可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除,也可以刪除存儲(chǔ)區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù)。

(3).讀:讀出已存入的測(cè)量數(shù)據(jù)

(4).統(tǒng)計(jì):設(shè)有三個(gè)統(tǒng)計(jì)量,平均值大值小值

(5).校準(zhǔn):可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)、兩點(diǎn)校準(zhǔn)及系統(tǒng)校準(zhǔn)

(6).電量:具有欠壓顯示功能

(7).打印:可打印測(cè)量值,選配微型打印機(jī)

(8).關(guān)機(jī):具有自動(dòng)關(guān)機(jī)和手動(dòng)關(guān)機(jī)兩種方法

6、電源:兩節(jié)1.5v電池

7、功耗:大功耗100mw

8、外形盡寸:124mm *50mm *24mm

9、重量:150g(含電池)

10、使用環(huán)境溫度:0℃~+40℃ 相對(duì)濕度:不大于90%

11、基體小厚度:0.3mm

12、基體小平面的直徑:7mm

13、小曲率半徑:凸:1.5mm      凹:6mm

14、欠電壓指示:右上角顯示""

*臨界厚度?。汗ぜw厚度大于1mm時(shí),其涂層厚度的測(cè)量不受基體厚度影響。


影響測(cè)量的若干因素:

-基體金屬厚度

每一種儀器都有一個(gè)基體金屬的臨界厚度,大于這個(gè)厚度測(cè)量就不受基體厚度的影響。

曲率

試件的曲率對(duì)測(cè)量有影響,這種影響是隨著曲率半徑減小明顯增大。因此不應(yīng)在試件超過(guò)允許的曲率半徑的彎曲面上測(cè)量。

-表面粗糙度

基體金屬和表面粗糙度對(duì)測(cè)量有影響。粗糙度增大,影響增大。粗糙表面會(huì)引起系統(tǒng)誤差和偶然誤差。每次測(cè)量時(shí),在

不同位置上增加測(cè)量的次數(shù),克服這種偶然誤差。

如果基體金屬粗糙還必須在未涂覆的粗糙相類似的基體金屬試件上取幾個(gè)位置校對(duì)儀器的零點(diǎn);或用沒(méi)有腐蝕性的溶液除去在基體金屬上的覆蓋層,再校對(duì)儀器零點(diǎn)。

-附著物質(zhì)

本儀器對(duì)那些妨礙探頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感。因此必須清除附著物質(zhì),以保證探頭與覆蓋層表面直接接觸。

-探頭的放置

探頭的放置方式對(duì)測(cè)量有影響,在測(cè)量中使探頭與試樣表面保持垂直。

-試片的變形

探頭使軟覆蓋層試件變形,因此在這些試件上會(huì)出現(xiàn)不太可靠的數(shù)據(jù)。

-讀數(shù)次數(shù)

通常儀器的每次讀數(shù)并不*相同。因此必須在每一測(cè)量面積內(nèi)取幾個(gè)測(cè)量值,覆蓋層厚度的局部差異,也要求在給定的面積內(nèi)進(jìn)行測(cè)量,表面粗糙時(shí)更應(yīng)如此。


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