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氧氮?dú)浞治鰞x的序控溫分析功能和設(shè)備基本要求
氧氮?dú)浞治鰞x由于分析器很重，應(yīng)該放置在合適的平臺(tái)上。天平要放置在無(wú)振動(dòng)的平臺(tái)上。天平可以放置在任何位置，為方便起見(jiàn)，一般放置在分析器的右邊比較合適。打印機(jī)和計(jì)算機(jī)的放置沒(méi)有特殊要求。可以放置在一般臺(tái)子上。
氧氮?dú)浞治鰞x的序控溫分析功能：
對(duì)于氫的標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)，使用分離柱以便氮和氫單獨(dú)分別進(jìn)入TCD檢測(cè)器。當(dāng)?shù)蜌浣惶孢M(jìn)入檢測(cè)器時(shí)，程序控溫分析對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)氣路機(jī)構(gòu)是無(wú)效的，因?yàn)楸鎰e氮和氫的峰值是非常困難的。
進(jìn)行程序控溫分析時(shí)要使用分離柱旁路機(jī)構(gòu)，此時(shí)氮?dú)夂蜌錃庖黄疬M(jìn)入TCD檢測(cè)器。接下來(lái)，氫氣被氧化并被共存氣體補(bǔ)償機(jī)構(gòu)除去，因而只有氮?dú)膺M(jìn)入TCD檢測(cè)器。最后，經(jīng)過(guò)差分操作處理得到兩個(gè)檢測(cè)結(jié)果，進(jìn)而決定氫的成分。
設(shè)備用途及基本要求：
用于定量檢測(cè)金屬材料中氧、氮、氫元素的含量，所標(biāo)定的技術(shù)參數(shù)均為實(shí)際值的下限。要求出廠(chǎng)前預(yù)裝調(diào)試，保證各部件質(zhì)量及匹配質(zhì)量并以整機(jī)形式出廠(chǎng)，經(jīng)久耐用，可靠性高，使用壽命長(zhǎng)。
氧氮?dú)浞治鰞x的維護(hù)保養(yǎng)：
1、更換試劑
高氯酸鎂：顆粒在試管中不能自由移動(dòng)時(shí)應(yīng)更換；
2、清掃脈沖熔融爐
一般分析后，可用干凈的綢布擦拭上下?tīng)t頭，并用洗耳球吹掃爐膛，防止粉塵污染爐頭及氣路。
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