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| 各國鹽霧試驗方法簡表 | ||||||||||
| 國家/組織 | 標準號 | 適用范圍 | 鹽水溶液 | 試驗條件 | 噴霧方式 | 樣品和垂線之間的角度 | 試驗時間 | 備注 | ||
| 濃度 | PH | 溫度 | 集霧率 | |||||||
| 電工委員會 | IEC68-2-11 （第三版1981） | 結構相同的樣品和保護層 | 5±1%（質(zhì)量） | 6.5～7.2 | 35±20C | 1～2ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 16、24、48、96、163、336、672h | |
| 標準化組織 | ISO3768-1976（E） | 金屬覆蓋層 | 50±5g/L | 6.5～7.2 （250C） | 35±20C | 1～2ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 2、6、24、48、96、240、480、720h | |
| 美國材料試驗學會 | ASTM-B117-73 | 材料覆蓋層 | 5±1% | 6.5～7.2 | 350C | 1～2ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 按系列選擇 | |
| 美國軍用標準 | MIL-STD-810D-83 | 使用在含鹽霧環(huán)境的設備 | 5±1%（質(zhì)量） | 6.5～7.2 （350C） | 350C | 0.5～3ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 48h或按系列選擇 | ||
| 英國 | BS.2011Part2.1Ka-77 | 元件抗鹽霧損壞能力，保護層的質(zhì)量和均勻性 | 5±0.1%（體積） | 6.5～7.2 | 35±20C | 1～2ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 按試驗樣品要求 | 同IEC68-2-11ka（1964） |
| 法國 | NFC20-511（1975） | 保護層的質(zhì)量和均勻性 | 5%（重量） | 6.5～7.2 | 35±20C | 1～3ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 24、48、96h | 同IEC68-2-11ka（1964） |
| 西德 | DIN50021-75 | 材料元件和設備 | 5±0.1%（重量） | 6.5～7.2 （250C） | 35±10C | 1.5±0.5ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 基本上同ASTMB117-64 | ||
| 原東德 | TGL9209 70 | 電工，電子，科學儀器 | 5±0.1% | 6.5～7.2 （200C） | 35±20C（噴霧） 20±50C（停霧） | 噴霧（8h中）5-10min/h停16h | 1、3、7、21、28天 | 參照IEC60-2-11（64第二版） | ||
| 波蘭 | PN-67/E-04350-67 | 熱帶型電工設備 | 3% | 6.8～7.2 | 20±20C | 0.5～3ml/80c㎡.h | 噴6h,停噴（打開箱）18h | 2～56天 | ||
| 前蘇聯(lián) | TOCT16962-71 | 電工電子產(chǎn)品 | 3.3±0.3% | 27±20C | 噴15min/h（間歇） | 2、7、10（天） | ||||
| 美國軍用標準 | MIL STD 202F | 電子設備零件 | 5% 20% | 6.5～7.2 | 350C （+1.1~1.1） | 0.5～3ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 48、96h | ||
| 日本 | JIS C5028-75 | 電子部件，金屬材料，無機或有機覆蓋層 | （1）20±2%（重量） （2）5±1% | 6.5～7.2 （350C） | 35±20C | 0.5～3ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 15o～30o | 16、24、48、96h | |
| 日本 | JIS H8681-80 | 鋁及鋁合金陽極氧化膜 | 5±1% | 3.3±0.2 | 50±10C | 1～2ml/80c㎡.h | 連續(xù)噴霧 | 4、8、16到72h | ||
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