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    去離子水是控制半導體產(chǎn)業(yè)污染的核心物質(zhì),而且是利用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(Inductively Coupled Plasma-Mass Spectromer)進行超痕量分析的基本的物質(zhì)。幾乎所有ICP-MS的分析試樣均以水為基液，如果該基液的基本雜質(zhì)含量較高，那么即便ICP-MS分析儀本身的檢測能力再強,分析也會受到限制。因此,超痕量分析基本的去離子水的質(zhì)量必須是污染控制實驗室的重中之重。 

 

    0.1ppt(pg/mL)水平的超痕量檢測依舊是ICP-MS面臨的難題,為了打破這一局面而開發(fā)出了采用濃縮預處理的去離子水分析法。去離子水濃縮分析法是在整個預處理過程中，在控制外界污染的前提下,使去離子水中所含雜質(zhì)的濃度達到高出ICP-MS檢測能力的過程，控制外界污染非常艱難,而且費用龐大、耗時長,除了一些潔凈度非常高的實驗室, -般操作起來會受到限制。

    本研究的目的是檢驗是否可用ICP-MS直接分析定量去離子水，來管理半導體行業(yè)實驗室的去離子水質(zhì)量。