在電子級化學(xué)品和晶圓拋光片的生產(chǎn)車間，哪怕是萬億分之一濃度的金屬雜質(zhì)，都可能成為良率滑坡的罪魁禍?zhǔn)住?/section>譜育科技自主研發(fā)的EXPEC 7350系列ICP-MS/MS，采用創(chuàng)新三重四極桿架構(gòu)，穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)0.1ppt級別超高靈敏度，即便面對復(fù)雜基質(zhì)，也能精準(zhǔn)鎖定痕量雜質(zhì)。經(jīng)過數(shù)千小時(shí)連續(xù)測試，EXPEC 7350系列ICP-MS/MS在檢出限、長期穩(wěn)定性、氧化物產(chǎn)率等關(guān)鍵指標(biāo)上，全面超越國際同類標(biāo)準(zhǔn)，真正實(shí)現(xiàn)了材料檢測的自主可控。硅烷、磷烷、三氟化氮……在芯片工廠，這些特氣一旦泄漏，后果難以想象。針對特氣泄漏風(fēng)險(xiǎn)，譜育科技推出的GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器，集成智能傳感器平臺，能夠精準(zhǔn)偵測40余種半導(dǎo)體特氣，為廠區(qū)安全運(yùn)行構(gòu)建起一道道堅(jiān)實(shí)防線。在實(shí)際應(yīng)用中，該系統(tǒng)已為某個(gè)12英寸晶圓項(xiàng)目提供全天候氣體泄漏監(jiān)測，有效提升了廠區(qū)的生產(chǎn)安全水平。
GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器
隨著半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)不斷邁向5nm乃至3nm，微量氣態(tài)污染也可能導(dǎo)致產(chǎn)品報(bào)廢。半導(dǎo)體行業(yè)對檢測設(shè)備的靈敏度、穩(wěn)定性與響應(yīng)速度提出了的高標(biāo)準(zhǔn)。污染早發(fā)現(xiàn)、早控制，成為產(chǎn)線安全運(yùn)行的底層邏輯。
在半導(dǎo)體廠區(qū)，譜育科技AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)通過分布式多點(diǎn)采樣，集成GC-MS、CRDS等先進(jìn)技術(shù)，將廠區(qū)空氣環(huán)境編織成一張無形的“感知之網(wǎng)"，實(shí)時(shí)鎖定ppb級污染風(fēng)險(xiǎn)。采樣管路覆蓋范圍可達(dá)200米，檢出限低至0.1ppb，幫助客戶第一時(shí)間預(yù)警微小污染源，防患于未然。
AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)
為了滿足快速布控與局部排查需求，譜育科技還推出了移動推車式AMC監(jiān)測系統(tǒng)，內(nèi)置大容量電池與獨(dú)立觸控終端，脫離市電也能持續(xù)監(jiān)測。
在潔凈室，一臺痕量氣體分析儀穩(wěn)定運(yùn)行，實(shí)時(shí)監(jiān)測車間環(huán)境中的氯化氫濃度。屏幕上報(bào)警信息同步推送，為產(chǎn)線調(diào)整爭取寶貴時(shí)間。
這臺設(shè)備正是聚光科技旗下子品牌如儀推出的SCA系列高精度痕量氣體分析儀?；谧灾餮邪l(fā)的CRDS技術(shù)，該設(shè)備可以在有限的光腔內(nèi)實(shí)現(xiàn)長達(dá)20千米的有效測量光程，對HF、NH?、HCl等有害氣體進(jìn)行ppb級別的實(shí)時(shí)監(jiān)測，各項(xiàng)指標(biāo)比肩進(jìn)口設(shè)備。
如儀SCA系列高精度痕量氣體分析儀
在過去，國內(nèi)相關(guān)檢測設(shè)備在靈敏度與穩(wěn)定性方面始終受限，難以滿足先進(jìn)工藝對潔凈環(huán)境的要求。聚光科技成功打破國外在CRDS技術(shù)領(lǐng)域的長期壟斷，自主構(gòu)建起完整技術(shù)體系，，助力半導(dǎo)體檢測實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵技術(shù)自主可控。
項(xiàng)目測試數(shù)據(jù)顯示，如儀SCA系列高精度痕量氣體分析儀的監(jiān)測數(shù)據(jù)與某進(jìn)口品牌設(shè)備一致性高達(dá)99.77%，氣體切換響應(yīng)時(shí)間10-20秒，成為產(chǎn)線上真正的“黃金救援助手"。
如儀SCA系列（HCI）比對測試數(shù)據(jù)如今，聚光科技的檢測裝備已助力國內(nèi)多家晶圓廠、半導(dǎo)體材料等企業(yè)穩(wěn)步提升產(chǎn)線良率與本質(zhì)安全水平，為“中國芯"保駕護(hù)航。譜育科技EXPEC 7350系列已成功應(yīng)用于多家大型半導(dǎo)體企業(yè)。某寬禁帶半導(dǎo)體材料企業(yè)將該設(shè)備用于襯底拋光片、外延片及高純試劑中的痕量金屬檢測。經(jīng)過半年使用，設(shè)備表現(xiàn)穩(wěn)定，客戶對其性能及售后服務(wù)給予高度認(rèn)可。
EXPEC 7350系列應(yīng)用于某寬禁帶半導(dǎo)體材料企業(yè)在制程芯片制造企業(yè)和8+12英寸集成電路制造企業(yè)，EXPEC 7350S型ICP-MS有效覆蓋G3~G5級化學(xué)品的質(zhì)控要求，實(shí)現(xiàn)了G5級硝酸、氫氟酸、雙氧水、IPA等試劑的過程品控。
在的12寸硅片制造企業(yè)和化合物半導(dǎo)體制造企業(yè)，譜育科技利用VPD與7350S組合方案，能夠?qū)崿F(xiàn)自動化監(jiān)測晶圓表面金屬離子沾污，滿足8-12寸硅片制造企業(yè)和化合物半導(dǎo)體制造企業(yè)的品控要求。
在某12英寸集成電路生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目中，GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器為30余種有毒有害氣體建立了實(shí)時(shí)在線監(jiān)測體系，通過多層級報(bào)警聯(lián)動機(jī)制，大幅提升了生產(chǎn)環(huán)境的本質(zhì)安全水平。
GDM-2100 Series半導(dǎo)體氣體探測器助力某12英寸集成電路生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目
晶圓廠采用AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)潔凈室酸、堿、VOC等多類污染物的ppb級連續(xù)監(jiān)測。系統(tǒng)支持多點(diǎn)分布式采樣與靈活移動部署，為生產(chǎn)優(yōu)化與環(huán)境控制提供實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)支撐。
晶圓廠采用AMC 1000微污染氣體監(jiān)測系統(tǒng)
某半導(dǎo)體廠在引入如儀SCA系列高精度痕量氣體分析儀后，發(fā)現(xiàn)其檢測精度與進(jìn)口設(shè)備相當(dāng)，響應(yīng)速度快，運(yùn)行穩(wěn)定，隨即加購一臺?？蛻舴答仯骸靶阅軐?biāo)進(jìn)口，服務(wù)響應(yīng)更快，國產(chǎn)儀器可以放心用。"
以科技自強(qiáng)
擎起中國“芯"力量
聚光科技，用科技創(chuàng)新擦亮了國產(chǎn)檢測裝備的底色，夯實(shí)了半導(dǎo)體制造的技術(shù)根基。
創(chuàng)新，從未止步；責(zé)任，始終在肩。
未來，聚光科技將繼續(xù)錨定國家戰(zhàn)略所需，聚焦產(chǎn)業(yè)發(fā)展所急，深耕科學(xué)儀器領(lǐng)域，助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)走得更穩(wěn)、更遠(yuǎn)、更強(qiáng)。
以科技之光，照亮制造強(qiáng)國之路；以自主之力，支撐中國“芯"脈向上生長。
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