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單蒸發(fā)皿程控鍍膜儀
 

光潔真空腔室，易清潔和放入樣品；

旋轉樣品臺，可獲得更均勻的薄膜樣品；

采用特質鎢絲加熱器，溫度可達1500°C；

內置分子泵機組，可獲取更高真空；

控溫模式可選，手動加程序控溫可隨意選擇。

基于客戶需求設計的一款針對電極制備和有機物發(fā)光LED的鍍膜設備，較常規(guī)產品，該產品新增旋轉樣品臺和程序控溫功能。精確控制溫度200°C-1500°C，可蒸鍍直徑50mm薄膜樣品，可用于制備金屬薄膜和有機物薄膜。