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目錄:賽默飛世爾科技（中國）有限公司>>掃描電鏡（SEM）>> Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡
  • Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 FEI/賽默飛
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間：2025-01-20 15:09:05瀏覽次數(shù)：123評價(jià)

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應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工
Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡環(huán)境掃描電鏡(ESEM)，用于研究包括含水樣品在內(nèi)的各種樣品。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡

環(huán)境掃描電鏡(ESEM)，用于研究包括含水樣品在內(nèi)的各種樣品

Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡的主要特點(diǎn)

動態(tài)原位實(shí)驗(yàn)

對自然狀態(tài)下的材料進(jìn)行原位研究：具有環(huán)境模式的高分辨場發(fā)射掃描電鏡 (ESEM)。原位分析的溫度范圍為 -165°C 至 1400°C，搭配使用各種冷臺和熱臺。

最大限度地減少樣品制備時(shí)間

低真空和ESEM環(huán)境掃描電鏡功能可對非導(dǎo)電和/或含水樣品進(jìn)行無電荷/無脫水成像和分析。

Quattro ESEM環(huán)境掃描電鏡樣品觀察

在各種操作模式下均可實(shí)現(xiàn) SE 和 BSE 同時(shí)成像。

優(yōu)異的分析能力

優(yōu)異的分析能力來自可以最多同時(shí)使用 3 個(gè) EDS 檢測器的腔室，并具有對稱180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS幾何共面的EBSD接口。對非導(dǎo)電樣品的出色分析：在低真空條件下，Quattro ESEM高溫掃描電鏡的減小電子束散射技術(shù)可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的 EDS 和 EBSD。

靈活且精確

靈活且精確的優(yōu)中心樣品臺，傾斜范圍達(dá) 105°，可從各個(gè)角度觀察樣品。


易于使用的軟件及創(chuàng)新性選項(xiàng)

直觀易用且?guī)в杏脩糁改虾统废δ艿能浖?。使用更少的鼠?biāo)點(diǎn)擊，更快速地完成工作。新的創(chuàng)新選項(xiàng)，包括可伸縮 RGB 陰極發(fā)光 (CL) 檢測器、1100°C 高真空加熱載物臺和 AutoScript 4 軟件（基于 Python 的API腳本工具）。

Quattro ESEM 環(huán)境掃描電鏡的規(guī)格

分辨率

  • 高真空模式

    • 0.8nm@30kV（STEM）

    • 1.0nm@30kV（SE）

    • 3.0nm@1kV（SE）

    • 低真空和環(huán)掃模式

    • 1.3nm@30kV（SE）

標(biāo)準(zhǔn)檢測器

  • ETD、低真空 SED (LVD)、 ESEM SED (GSED)、紅外CCD

可選檢測器

  • Nav-Cam+、DBS、DBS-GAD、ESEM-GAD、ICD、STEM 3+、WetSTEM、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼、EBIC 等

ChemiSEM 技術(shù)（可選）

  • 可基于能量色散 X 射線光譜 (EDS) 進(jìn)行實(shí)時(shí)定量 元素面分布。包含點(diǎn)分析、線掃描、面分布及元素定量。

樣品臺減速（可選）

  • -4000 V 至 +50 V

低真空模式

  • 高達(dá) 2600 Pa (H2O) 或 4000 Pa (N2)

樣品臺

  • 5軸馬達(dá)優(yōu)中心樣品臺，110 x 110 mm2，105° 傾斜范圍。最大樣品重量：未傾斜位置，5 kg。

標(biāo)準(zhǔn)樣品支架

  • 標(biāo)準(zhǔn)多樣品 SEM 支架可單獨(dú)直接安裝在載物臺上，可容納多達(dá) 18 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品托 (? 12 mm)，無需工具即可安裝樣品

樣品倉

  • 340 mm 內(nèi)寬，12 個(gè)接口，最多可接三個(gè) EDS 檢測器（兩個(gè)呈 180°對稱），并具有與共面 EDS共面的EBSD接口。

原位配件（可選）

  • 軟件控制的 -20°C 至 +60°C Peltier 冷臺

  • 軟件控制的 1,000°C 低真空/ESEM 熱臺

  • 軟件控制的 1,100°C 高真空熱臺

  • 軟件控制的 1,400°C 低真空/ESEM 熱臺

  • 集成氣體注入系統(tǒng)：用于下列材料的電子束誘導(dǎo)沉積，最多支持2種氣體（其他配件可能限制可用的注氣系統(tǒng) (GIS) 數(shù)量）：

    • 鉑

    • 鎢

    • 碳

  • 納米機(jī)械手

  • 液氮致冷臺

  • 電子探針/多探針臺

軟件選項(xiàng)

  • Thermo Scientific Maps 軟件可進(jìn)行大面積圖像自動采集和拼接，并可與其它設(shè)備聯(lián)用

  • Thermo Scientific AutoScript 4 軟件；基于 Python 的應(yīng)用程序編程界面

  • 圖形發(fā)生軟件

  • TopoMaps 軟件用于圖像著色及分析和 3D 表面重建




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