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價格區(qū)間	1萬-2萬	應用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),地礦,建材/家具,道路/軌道/船舶

池田屋ORC歐阿希 PPS-8500半導體曝光設(shè)備儀器

它是一種小型輕便的手持式測量儀器。適用于管理生產(chǎn)現(xiàn)場配備紫外線燈的設(shè)備。
請使用它來管理紫外線燈的紫外線照射量（照度/光量）。

大型面板專用步進機

兼容因熱處理而高度翹曲的電路板以及具有扭曲的重新布線表面的電路板。

能夠利用最佳的吸附方式吸附并輸送翹曲的工件

具有多點對焦的自動對焦功能

支持面板伸縮的對齊功能

配備分割全局對準、逐個鏡頭（逐個芯片）對準和標線縮放功能

兼容各種應用

兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機

寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設(shè)計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質(zhì)的影響兼容各種應用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機

寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設(shè)計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質(zhì)的影響兼容各種應用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機

寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設(shè)計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質(zhì)的影響

模型	PPS-8500
面板尺寸	510 x 515mm（最大）
解決	2.0 µmL/S（2.0 µm 抗蝕劑厚度）
NA（數(shù)值孔徑）	0.16、0.1 變量
減速比	1:1
場地大小	52毫米×33毫米
曝光波長	ghi-Line gh-line i-line（食譜鏈接）
標線尺寸	6寸
疊加精度	≤1.0 µm(\|平均\|+3σ)
設(shè)備尺寸/重量	(寬)3,000×(深)4,800×(高)2,500mm / 11,000kg

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