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通過(guò)片托產(chǎn)生負(fù)壓，將需要旋涂的基底材料吸附在片托上。然后，將涂覆材料的膠液滴注在基底材料表面。之后，設(shè)備通過(guò)調(diào)節(jié)電機(jī)轉(zhuǎn)速來(lái)改變離心力大小，使膠液在離心力作用下均勻地分布在基底材料上，同時(shí)控制膠液流量，從而獲得想要的薄膜厚度。

控制系統(tǒng)：一般內(nèi)置電腦控制，擁有操作界面，常見(jiàn)的如 7 英寸的觸摸屏控制面板等，方便操作人員進(jìn)行參數(shù)設(shè)置和程序編輯。

電機(jī)：提供旋轉(zhuǎn)動(dòng)力，其性能決定了勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速范圍、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性和加速度等關(guān)鍵參數(shù)。

腔體：用于放置待涂覆的基材和進(jìn)行涂覆操作的空間。腔體的材質(zhì)有多種選擇，如不銹鋼腔體、聚四氟乙烯腔體等，可根據(jù)不同的實(shí)驗(yàn)需求和涂覆材料進(jìn)行選擇。

真空裝置（部分型號(hào)具備）：幫助吸附基底材料，確保在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中基底材料的穩(wěn)定性，減少因基底移動(dòng)而導(dǎo)致的涂覆不均勻問(wèn)題。

轉(zhuǎn)速范圍：200-10000RPM，不同的應(yīng)用場(chǎng)景和材料需要不同的轉(zhuǎn)速。例如，對(duì)于一些粘度較高的膠液，可能需要較低的轉(zhuǎn)速；而對(duì)于需要更薄、更均勻薄膜的情況，則需要較高的轉(zhuǎn)速。

轉(zhuǎn)速精度：一般可達(dá)到 1rpm 或更高的精度，確保每次涂覆的重復(fù)性和一致性。

加速度：加速度也是一個(gè)重要參數(shù)，它決定了設(shè)備從起始轉(zhuǎn)速到設(shè)定轉(zhuǎn)速的加速過(guò)程的快慢，影響涂覆效果。

鍍膜尺寸：可適用于不同尺寸的基材，常見(jiàn)的鍍膜尺寸范圍在 φ10 至 100mm 左右。

程序控制：可以預(yù)先設(shè)置5組程序，每個(gè)程序又可以包含5個(gè)步驟，用戶可以根據(jù)不同的材料和工藝要求進(jìn)行自定義編輯。

實(shí)時(shí)監(jiān)控：能夠?qū)崟r(shí)顯示旋涂速度、時(shí)間等參數(shù)，讓用戶可以直觀地了解涂覆過(guò)程的進(jìn)展情況。