本裝置是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導體的設備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
本設備采用真空技術,用于在產(chǎn)品外部涂覆非導體材料。在真空環(huán)境下,產(chǎn)品會進行自旋轉動,使涂層能夠均勻覆蓋整個表面,形成一定厚度的保護膜。這種真空涂層技術可以確保涂層的致密性和附著力,從而為產(chǎn)品提供耐磨、絕緣、防腐等功能。
具體來說,該設備由真空室、高速旋轉平臺和涂層噴淋系統(tǒng)等部件組成。產(chǎn)品放置在旋轉平臺上,在真空抽氣后,平臺以高速旋轉,同時對產(chǎn)品表面進行均勻的涂層噴灑。涂層材料在真空環(huán)境下能夠迅速附著并形成致密的膜層,厚度可以精確控制,以滿足不同產(chǎn)品的性能要求。這種真空涂層技術廣泛應用于電子、汽車、航空航天等領域,為產(chǎn)品提供保護性能。
與傳統(tǒng)的大氣壓涂裝相比,真空涂層技術具有明顯的優(yōu)勢。首先,真空環(huán)境可以有效地排除空氣中的灰塵和雜質,確保涂層表面的潔凈度。其次,真空狀態(tài)下涂層材料的流動性和浸潤性大為提高,能夠更好地覆蓋產(chǎn)品表面的微小凹凸部位。此外,真空條件下涂層的固化速度更快,生產(chǎn)效率更高。總之,這種真空涂層技術為產(chǎn)品表面處理提供了一種高質量、高效率的解決方案。
| 設備構成 | Auto Inline 8 Chamber |
| 到達真空 | 3 x 10-6 Torr |
| 排氣構成 | D/P + Poly Cold + MBP + RP |
| 產(chǎn)品回轉 | 滾輪驅動 |
| Sputter Target | AL, SUS, Ni, Sn, Ti, Cr |
| Cycle Time | 1~3 min |
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