規(guī)格：
拋光機部分機頭，工作臺:30- 200rpm，旋轉運動，機頭振蕩(±15mm)
拋光機尺寸:寬1626 *寬1500 *高1950毫米
重量:約2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸)，特氟龍涂層鋁
壓制方式:可變空氣
壓力電子控制器膜類型:70-350克/平方厘米(1 psi~5 psi)的12"晶圓片
CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI等
可添加選項
墊式調理方法:擺頭式或擺臂式
單頭或雙頭系統(tǒng)
摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)
清潔：
清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米
重量:約1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320(長)毫米
配置:獨立配置4個清洗工位，DIW刀預清洗，2個雙面滾刷清洗，N2吹旋漂干
預清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學：nh4oh（<1%）或DIW
刷型:雙面PVA刷
轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm
化學品供應:4個噴嘴和通過刷子
可用化學:4化學
化學品流量:滿量程< 1l /min
DI流量:滿量程< 10l /min
轉站
旋轉速度:最高2500轉/分
DIW沖洗/ N2吹(可選:強掃)
控制
工藝:自動上片，自動順序，濕進/干出
程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控，程序可編程，計算機網絡可比
1. 規(guī)格
拋光機部分機頭，工作臺:30- 200rpm，旋轉運動，機頭振蕩(±15mm)
拋光機尺寸:寬1626 *寬1500 *高1950毫米
重量:約2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸)，特氟龍涂層鋁
壓制方式:可變空氣
壓力電子控制器膜類型:70-350克/平方厘米(1 psi~5 psi)的12"晶圓片
CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI等
2. 可添加選項
墊式調理方法:擺頭式或擺臂式
單頭或雙頭系統(tǒng)
摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)
3. 清潔
清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米
重量:約1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內徑)320(長)毫米
配置:獨立配置4個清洗工位，DIW刀預清洗，2個雙面滾刷清洗，N2吹旋漂干
預清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗
輥刷工位
化學：nh4oh（<1%）或DIW
刷型:雙面PVA刷
轉速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm
化學品供應:4個噴嘴和通過刷子
可用化學:4化學
化學品流量:滿量程< 1l /min
DI流量:滿量程< 10l /min
轉站
旋轉速度:高2500轉/分
DIW沖洗/ N2吹(可選:強掃)
控制
工藝:自動上片，自動順序，濕進/干出
程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控，程序可編程，計算機網絡可比
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