欧美……一区二区三区,欧美日韩亚洲另类视频,亚洲国产欧美日韩中字,日本一区二区三区dvd视频在线

深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 涂膠與顯影機

    ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
    型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:41:23 對比

  • 氣相分解金屬沾污收集（VPD）設備

    詳細介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產及再生、先導工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產品。由...
    型號： Seehund&#... 所在地：徐州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 21:37:25 對比

  • 去膠機

    用于封裝領域中的光阻去除工藝，掩膜版清洗，OLED 領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝及化合物半導體領域中的光阻去除及蒸鍍后金屬剝離等工藝
    型號： KS-S150-6... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:23:35 對比

  • 去膠機

    適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
    型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:19:56 對比

  • 單片清洗機

    用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:17:42 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合，...
    型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:13:38 對比

  • 12寸 集束型涂膠顯影機

    KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號： KS-C300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:11:10 對比

  • 12寸噴霧式涂膠機

    KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:09:27 對比

  • 涂膠顯影半自動機臺

    KS-M300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小，操作時...
    型號： KS-M300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:07:40 對比

  • 星型全自動涂膠顯影機

    KS-S150星型全自動涂膠顯影機用于LED-PSS工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程?？杉嫒菟{寶石、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓，產品涉及多個應用...
    型號： KS-S150 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:06:06 對比

  • 涂膠顯影機

    KS-FT200/300系列堆疊式高產能前道涂膠顯影機，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
    型號： KS-FT200/... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 20:00:21 對比

  • 高精密微3D光刻機

    織雀™PL-3D Premium 是托托科技自主研發(fā)的高精密微3D光刻設備， 最高光學分辨率可達1μm，支持最大50 mm×50 mm&#...
    型號： 織雀™... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:09:44 對比

  • 無掩膜光刻機

    BIO系列是生命科學版的無掩膜紫外光刻機，無掩膜光刻機具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微...
    型號： BIO L+ 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 17:02:00 對比

  • 無掩膜光刻機

    Speed系列是高速版的無掩膜版紫外光刻機，其無掩膜光刻機配備了先進的高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:57:54 對比

  • 無掩膜光刻機

    ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機，其基于空間光調制技術，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩(wěn)定，上手簡單。...
    型號： UV Litho-... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:53:38 對比

  • 激光掩模光刻機

    ULTRA激光掩模光刻機 是專門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號： ULTRA 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:49:59 對比

  • 無掩模直接成像儀光刻機

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結構而設計。它源自掩模制作工具，具有所有先進的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
    型號： VPG 300 D... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:43:56 對比

  • 有掩膜光刻機

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設計。它們支持所有標準的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:39:38 對比

  • 激光光刻機

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:35:30 對比

  • 雙光子聚合直寫光刻機

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結構的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學、光子學、微機械學和生物醫(yī)學...
    型號： MPO 100 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2025/6/5 16:30:58 對比
12345共5頁,82條記錄 跳轉

會員登錄

×

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏！
標簽：
保存成功

(空格分隔,最多3個,單個標簽最多10個字符)

常用：

提示

X
您的留言已提交成功！我們將在第一時間回復您~

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業(yè)負責，化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。

溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。

撥打電話
在線留言