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KMP-2B+MPT雙盤半自動磨拋機

磨拋機的用途與特性

本磨拋機為雙盤式機，可兩人同時操作使用，適用于對金相試樣進行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機通過變頻器調(diào)速，可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機具有更加廣泛的應(yīng)用性。是用戶用來制作金相試樣的設(shè)備。本機帶有冷卻裝置，可以在預(yù)磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。該機使用方便、安全可靠，是工廠、科研單位以及大專院校實驗室的制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標

1、工作電壓：220V 50HZ

2、拋光盤直徑：φ203mm

3、磨拋盤轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)速50-1000轉(zhuǎn)/分

4、輸入功率：550W

5、外形尺寸：710*680*330mm

6、重量：50kg

裝 箱 單