水處理設(shè)備廠(chǎng)商

水處理設(shè)備廠(chǎng)商概述：

高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過(guò)程作為預(yù)處理過(guò)程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來(lái)越流行。如電除鹽過(guò)程（EDI）之類(lèi)的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過(guò)程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡(jiǎn)單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過(guò)程是膜處理過(guò)程中增長(zhǎng)快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹(shù)脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

　　EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm（25℃），但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的純水。

進(jìn)水指標(biāo)要求

通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：＜25ppm。

電導(dǎo)率：＜40μS/cm

ＰH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，

EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。

溫度： 5～35℃。

進(jìn)水壓力：＜4bar（60psi）。

硬度：（以CaCO3計(jì)）：＜1.0ppm。

有機(jī)物（ TOC）：＜0.5ppm。

氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

變價(jià)金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

H2S：＜0.01ppm。

二氧化硅：＜0.5ppm。

色度：＜5APHA。

二氧化碳的總量：＜10ppm

 SDI 15min：＜1.0。