RO反滲透超純水設(shè)備

自從1986年EDI膜堆技術(shù)工業(yè)化以來，*已安裝了數(shù)千套EDI系統(tǒng)，尤其在制藥、半導(dǎo)體、電力和表面清洗等工業(yè)中得到了大力的發(fā)展，同時(shí)在廢水處理、飲料及微生物等領(lǐng)域也得到廣泛使用。

RO反滲透超純水設(shè)備工藝流程
醫(yī)藥行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點(diǎn)
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→ 微孔過濾器→用水點(diǎn)
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點(diǎn)
2主要用途1、超純材料和超純試劑的生產(chǎn)和清洗
2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)
4、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗
5、電路板的生產(chǎn)和清洗
6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)

制取要求新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)出水質(zhì)
電阻率>15MΩ.cm
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
超純水質(zhì)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。