日本sasaki koki半導(dǎo)體晶體非接觸式測(cè)厚儀OZUMA22
OZUMA 更新了用于半導(dǎo)體晶片（Si 硅晶片、GaAs、砷化鎵 Ga）、砷（As）、玻璃、金屬等的高精度非接觸式厚度測(cè)量裝置（非接觸式厚度測(cè)量裝置） . 非接觸式測(cè)厚儀OZUMA22用于控制半導(dǎo)體晶片（Si硅晶片、GaAs、鎵（Ga）砷（As））在背面拋光過(guò)程中，或在每個(gè)制造過(guò)程中的厚度（厚度）?？捎糜冢ê穸龋┛刂频姆墙佑|式測(cè)量。

日本sasaki koki半導(dǎo)體晶體非接觸式測(cè)厚儀OZUMA22

 

<用途>

 

半導(dǎo)體（各種材料）的晶片硅Si.GaAs砷化鎵等，玻璃，金屬，化合物等的高精度非接觸式厚度測(cè)量（非接觸式厚度測(cè)量）

 

<功能>

 

1. 1?？梢酝ㄟ^(guò)空氣背壓法進(jìn)行非接觸式厚度測(cè)量（非接觸式厚度測(cè)量），并且不會(huì)造成刮擦和污染等損壞
?？梢暂p松進(jìn)行高精度的非接觸式厚度測(cè)量（非接觸式厚度測(cè)量），而無(wú)需依賴諸如薄膜和彩色光澤之類的材料
。潮濕時(shí)可以進(jìn)行高精度的非接觸式厚度測(cè)量（非接觸式厚度測(cè)量）
。即使鏡面透明或半透明，也可以毫無(wú)問(wèn)題地進(jìn)行高精度的非接觸式厚度測(cè)量（非接觸式厚度測(cè)量）
。由于使用上下測(cè)量噴嘴進(jìn)行測(cè)量，因此
　 　可以精que地測(cè)量“厚度”，而不受測(cè)量對(duì)象“打滑”引起的提升的影響。
　　（也可以選擇“滑行”測(cè)量（* 1））
6。由于操作簡(jiǎn)便，因此可以非常輕松地進(jìn)行測(cè)量和校準(zhǔn)（* 2）。

<測(cè)量原理>

精que控制上下測(cè)量噴嘴的背壓，對(duì)噴嘴進(jìn)行定位，使噴嘴和被測(cè)物體之間的間隙保持恒定，并使用預(yù)先用基準(zhǔn)量規(guī)校準(zhǔn)的值進(jìn)行比較計(jì)算處理。對(duì)被測(cè)物進(jìn)行測(cè)量操作，可以精que計(jì)算出厚度。

日本sasaki koki半導(dǎo)體晶體非接觸式測(cè)厚儀OZUMA22

<性能>

　　分辨率0.1μm
　　重復(fù)精度10次重復(fù)測(cè)量時(shí)的標(biāo)準(zhǔn)偏差（1σ）0.3μm以下
　　最大測(cè)量范圍 10mm（* 3）
　　供應(yīng)能源電源AC100V 50 / 60Hz 3A
　　　　　　　　　　　 清潔空氣0.4MPa 20NL /分鐘（* 4）