雷達液位計傳感器是26G高頻雷達式物位、液位測量儀表，輸出4-20mA模擬信號，測量z大距離可達70米。天線被進一步優(yōu)化處理，新型的快速的微處理器可以進行更高速率的信號分析處理，使得儀表可以用于：反應釜或固體料倉非常復雜的測量條件。

   雷達物位計是采用微波技術(shù)來檢測料位的高科技產(chǎn)品，該料位儀利用微波具有穿透性好，對惡劣環(huán)境及被測物料適應性強等特點，采用世界上*的大規(guī)模集成電路，利用雷達原理、數(shù)字信號處理技術(shù)和快速傅里葉變換（FFT）技術(shù)。采用連續(xù)式乍動測量，能測量液體、固體（塊狀、粉狀）料位，具有測距遠（35米）、精度高等特點。

測量原理

　　智能型液位計發(fā)射能量很低的極短的微波脈沖通過天線系統(tǒng)發(fā)射并接收。雷達波以光速運行。運行時間可以通過電子部件被轉(zhuǎn)換成物位信號。一種特殊的時間延伸方法可以確保極短時間內(nèi)穩(wěn)定和精確的測量。即使工況比較復雜的情況下，存在虛假回波，用* 的微處理技術(shù)和調(diào)試軟件也可以準確的分析出物位的回波。

性能指標：     
應 用： 固體料、過程容器或強粉塵易結(jié)晶、結(jié)露場合，固體顆粒、粉塵，輕微腐蝕的液體，各種強腐蝕性液體，衛(wèi)生型液體存儲容器，強腐蝕性容器
測量范圍： 70米
過程連接： 萬向法蘭，螺紋
過程溫度： -40～250℃
過程壓力： -0.1～0.1MPa
精 度： ±15mm
頻率范圍： 26GHz
防爆等級： Exia ⅡC T6 Ga/ Exd [ia] IIC T6 Gb
防護等級： IP67
現(xiàn)場顯示： 四位LCD 可編程
外 殼： 鋁 / 塑料
信號輸出： 4-0mA/HART(兩線/四線)  RS485/Modbus

產(chǎn)品特點：

1、無盲區(qū)，高精度

2、兩線制技術(shù)，是差壓儀表、磁致伸縮、射頻導納、磁翻板儀表的優(yōu)良替代產(chǎn)品。

3、不受壓力變化、真空、溫度變化、惰性氣體、煙塵、蒸汽等環(huán)境影響

4、安裝簡便，牢固耐用，免維護

5、輸出信號為4mA～20mA或依照HART協(xié)議，標定簡便、通過數(shù)字液晶顯示輕松實現(xiàn)現(xiàn)場標定操作，通過軟件實現(xiàn)簡單的組態(tài)設(shè)定和編程

6、測量靈敏，刷新速度快。

7、適用于高溫工況，高達200℃過程溫度，當采用高溫延長天線時可達350℃

液位計型號規(guī)格

液位計選型要點

正確選型才能保證更好的使用。選用什么種類的應根據(jù)被測流體介質(zhì)的物理性質(zhì)和化學性質(zhì)來決定?使的通徑、流量范圍、襯里材料、電極材料和輸出電流等?都能適應被測流體的性質(zhì)和流量測量的要求。

1、精密功能檢查

精度等級和功能根據(jù)測量要求和使用場合選擇儀表精 度等級，做到經(jīng)濟合算。比如用于貿(mào)易結(jié)算、產(chǎn)品交接和能源計量的場合，應該選擇精度等級高些，如1.0級、0.5級，或者更高等級; 用于過程控制的場合，根據(jù)控制要求選擇不 同精度等級;有些僅僅是檢測一下過程流量，無需做精確控制和計量的場合，可以選擇精度等級稍低的，如1.5級、2.5級，甚至 4.0級，這時可以選用價格低廉的插入式。

2、可測量的介質(zhì)

測量介質(zhì)流速、儀表量程與口徑 測量一般的介質(zhì)時，的滿度 流量可以在測量介質(zhì)流速0.5—12m/s范圍內(nèi) 選用，范圍比較寬。選擇儀表規(guī)格(口徑)不一 定與工藝管道相同，應視測量流量范圍是否 在流速范圍內(nèi)確定，即當管道流速偏低，不能滿足流量儀表要求時或者在此流速下測量準 確度不能保證時，需要縮小儀表口徑，從而提 高管內(nèi)流速，得到滿意測量結(jié)果。

雷達液位計安裝位置：
建議距離：罐體內(nèi)壁至安裝短管的外壁應大于罐直徑的1/6；
離罐壁小距離為：300mm；
不能安裝在入料口的上方
不能安裝在中心位置，如果安裝*，會產(chǎn)生多重虛假回波，干擾回波會導致信號丟失。
如果不能保持儀表與罐壁的距離，罐壁上的介質(zhì)會黏附造成虛假回波，在調(diào)試儀表的時候應該進行虛假回波存儲。
1、安裝位置
理想的安裝位置為距罐壁半徑1∕2到1∕3之間，遠離進料口出料口。如果達不到理想的安裝位置選用雷達物位計的時候要盡量選擇對安裝位置要求比較寬松的雷達
2、介質(zhì)特性
防腐雷達水位計首先看是固體、液體、以及介質(zhì)的介點常數(shù)（雷達測量介質(zhì)的介點常數(shù)越大測量效果越好）。腐蝕性、粘稠度等。
3、罐內(nèi)環(huán)境
a) 良好（罐內(nèi)沒有障礙物工作時環(huán)境良好）
b) 不好（有攪拌加熱盤管等障礙物工作時有蒸汽、結(jié)晶等）