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產(chǎn)品簡介
振動金相拋光機SAPHIR Vibro可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池，是用于進一步材料表征，如EBSD（背散射電子衍射），AFM（原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備。
詳細介紹
實現(xiàn)溫和材料去除，達到拋光效果，Saphir Vibro振動拋光機為得到無殘留變形的制備表面而設(shè)計，是用于進一步材料表征，如EBSD（背散射電子衍射），AFM （原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測試的理想前序設(shè)備。
產(chǎn)品特點：
.可快速更換的帶磁性系統(tǒng)的拋光池
.從60-120 Hz的自動頻率控制
.“Surface-Guard”功能降低試樣磨料結(jié)晶和試樣表面腐蝕的機率
.預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單
.低工作噪音和吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計
.軟閉合式防護罩和排氣接口
.可存儲多達200個制備程序
技術(shù)參數(shù)：
拋光池內(nèi)徑 | 308 mm |
拋光布直徑 | 300 mm / 305 mm (12“) |
接口 | socket (depending on the configuration) · USB · Ethernet |
排氣接口 | Ø 40 mm |
環(huán)境溫度 | 10 - 40 °C |
IP 碼 | IP 22 |
應(yīng)用 | 試樣表面制備 |
應(yīng)用領(lǐng)域 | EBSD（背散射電子衍射），AFM （原子力顯微鏡） , 分析和納米壓痕或顯微硬度測試 |
連接功率 | 0.25 kVA |
驅(qū)動功率 | 135 VA |
電源 | 220-240 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) 100-120 V 50/60 Hz (1Ph/N/PE) |
寬 x高 x 深 | 510 x 300 x 590 mm |
重量 (取決于設(shè)備) | ≈ 45 kg |