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科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備
  • 科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備
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貨物所在地:河南鄭州市

地: 鄭州

更新時間:2024-12-27 09:03:30

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科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,觸摸屏控制,可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時間,配有樣品擋板能精確控制鍍膜時間,保護樣品

科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、PbAg、Al、Cu、Cr、AuNi等材料。

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637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘


真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備KT-Z1650CVD

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

1800

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa







實驗室高溫蒸鍍儀






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