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KT-Z1650PVD-高純度金顆粒蒸鍍儀
  • KT-Z1650PVD-高純度金顆粒蒸鍍儀
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貨物所在地:河南鄭州市

地: 鄭州

更新時(shí)間:2025-05-12 11:33:24

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高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板,可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板,達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果;觸摸屏控制,操作簡(jiǎn)單,更有工藝儲(chǔ)存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì)有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm~-1μm之間。

高純度金顆粒蒸鍍儀

采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì)有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm-1μm之間,傳統(tǒng)的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液態(tài)金屬表面熱發(fā)射電子引起液面上雜質(zhì)顆粒"放電"的理論來(lái)解釋這一現(xiàn)象。這類(lèi)電暈放電造成顆粒附近溫度*,瞬間將顆粒蒸發(fā)沉積在襯底。通過(guò)改變蒸鍍功率,或保持功率不變,改變電子束斑點(diǎn)形狀、落點(diǎn)位置等一系列實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了理論的合理性。

分別用鎢坩堝和玻璃碳涂層坩堝蒸鍍金膜,采用EDS分析金膜表面黑色顆粒的主要成分.對(duì)比金膜表面黑色顆粒分布的密度;根據(jù)兩種坩堝蒸金膜時(shí)的物理學(xué)特征不同,研究黑色顆粒產(chǎn)生的機(jī)理,解釋碳玻璃涂層坩堝蒸金黑色顆粒較多的原因;并利用玻璃碳坩堝采取不同的工藝條件進(jìn)行對(duì)比試驗(yàn),成功減少了金膜表面的黑色顆粒,為教學(xué)實(shí)驗(yàn)、真空鍍膜工藝和集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域蒸鍍高質(zhì)量的金膜提供幫助.

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-熱蒸發(fā)源:電阻式熱蒸發(fā)舟,交流電源、坩堝蒸發(fā);

-

腔體:不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇;

-

泵:前級(jí)干泵,分子泵;

- Load Lock

樣品傳輸腔室:手動(dòng)或自動(dòng)傳輸,高真空,支持多種樣品襯底(選配);

-

工藝控制:PC/PLC機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存;

-

襯底固定:?jiǎn)我r底固定,客戶化襯底固定方式;


-       襯底夾具:加熱,冷卻,偏置,旋轉(zhuǎn)等;

-       保護(hù)樣品:配有樣品擋板,可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板,達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果;





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高純度金顆粒蒸鍍KT-Z1650CVD技術(shù)資料

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機(jī)械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類(lèi)型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

1800

支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型

鎢絲藍(lán)  帶坩堝鎢絲藍(lán)  鎢舟  碳繩  

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計(jì)接口  KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

可選配擴(kuò)展

機(jī)械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數(shù)顯真空計(jì)(測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機(jī)組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa





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